专利摘要:

公开号:WO1992012982A1
申请号:PCT/JP1992/000051
申请日:1992-01-22
公开日:1992-08-06
发明作者:Tadafumi Terada;Katsuhiko Fujimoto;Makoto Nomura;Junichi Yamashita;Setsuo Takeda;Takashi Kobunai;Hideo Yamaguchi;Konstanty Wierzba
申请人:Taiho Pharmaceutical Co., Ltd.;
IPC主号:C07D493-00
专利说明:
[0001] 明 細 書
[0002] 4 ーデソキシ— 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン誘導体又は そあ薬学的に許容される塩
[0003] 技術分野
[0004] 本発明は、 抗腫瘍活性を有し抗腫瘍剤として有用であ る新規な 4 ーデソキシー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン誘 導体又はその薬学的に許容される塩に関する。
[0005] 背景技術
[0006] 抗腫瘍作用を有するポ ドフイ ロ トキシンの誘導体は古 くから知られており、 その代表的な化合物としてはエ ト ポシ ド、 テニポシ ド等が挙げられる。 しかし白血球減少. 血小板減少、 脱毛、 悪心、 嘔吐等の副作用が強い等、 臨 床上の問題があり、 十分に満足できる化合物はまだ得ら れていない。
[0007] 発明の開示
[0008] 本発明者は、 上記従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究 を重ねた結果、 下記一般式 ( I ) で表わされろ新規な 4 ーデソキシ一 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン誘導体又はそ の薬学的に許容される塩が極めて強い抗腫瘍活性を有し, 医薬として有用であるこ とを見出し、 本発明を完成した ( 即ち、 本発明は一般式 ( I )
[0009] ( I )
[0010] H3CO' 丁 'OCH3
[0011] [式中、 Ri は水素原子、 メチル基、 ベンジルォキシカ ルボニル基、 ハロゲン原子を有してもよい低級アル力ノ ィル基又は一 S i (R x) (R y ) (R z ) 基 (ここで R x、 R y及び R zは、 同一又は相異なって低級アルキ ル基又はフ 二ル基を示す) を示し、 Rは低級アルケニ ル基、 水酸基を有する低級アルキル基、 一 (C E ) m C H O基 (こ こで、 mは 0〜4の整数を示す) 、 ケ トァ ルデヒ ド基を有する低級アルキル基又は一 ( C Hn ) n NR2 R3 基 (ここで、 nは 1〜6の整数を示す) を示 す。 R2 及び R3 は同一又は相異なって水素原子、 環状 アルキル基、 一 N (R a) (R b) 基 (R a及び R bは 同一又は相異なつて低級アルキル基又はフヱ二ル基を示 す。 又 R aと R bは互いに結合して低級アルキル置換ピ ペラジノ基を形成してもよい。 ) 又は水酸基、 低級アル コキシ基、 フエニル基、 6員環含窒素複素環基もしく は 一 N (R c ) (R d ) 基 (R c及び R dは同一又は相異 なって低級アルキル基を示す。 ) で置換されてもよい低 級アルキル基を示す。 又 R 2 と R 3 は互いに結合して環 状構造を形成し、 その環状構造の中に更に酸素原子或い は窒素原子を含んでいてもよく 、 更に環状構造に置換基 として水酸基で置換されてもよい低級アルキル基又はピ ペリ ジノ基を有してもよい。 但し、 が水素原子であ る時、 Rは一 ( C Hつ ) _ C H O基又は一 ( C H2 ) D N R 2 R 3 基を示す。 ]
[0012] で表わされる 4ーデソキシー 4一ェビポ ドフィ 口 トキシ ン誘導体又はその薬学的に許容される塩を提供するもの あ o
[0013] —般式 ( I ) で表わされる本発明化合物は、 優れた抗 腫瘍活性を有しており、 種々の腫瘍の治療に有効である, 従って、 本発明は、 上記一般式 ( I ) の化合物又はそ の薬学的に許容される塩の有効量と薬学的担体とを含有 する抗腫瘍剤を提供するものである。
[0014] また、 本発明は、 上記一般式 ( I ) の化合物又はその 薬学的に許容される塩を哺乳動物に投与することからな る哺乳動物の腫瘍治療方法を提供するものである。
[0015] 上記一般式 ( I ) において で示される低級アル力 ノィル基と しては、 例えばァセチル、 プロピオニル、 プ チリル、 ィ ソブチ リル、 ノく'レ リル、 イ ソバレ リル、 ビバ、 ロイル基等の炭素数 2〜 5の直鎖状又は分枝状のアル力 ノィル基を例示でき、 ハロゲン原子としては、 例えばフ ッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子等を例示で きる。 R x、 R y、 R z、 R 2 、 R 3 、 R a、 R b、 R c及び R dで示される低級アルキル基としては、 例え ばメチル、 ェチル、 n —プロピル、 イソプロピル、 n — ブチル、 イソブチル、 s e c —ブチル、 t e r t —ブチ ル、 ペンチル、 ネオペンチル、 へキシル基等の炭素数 1
[0016] 〜 6の直鎖状又は分枝状のアルキル基を例示することが できる。 Rで示される低級アルケニル基としては、 例え ばビニル、 1一プロぺニル、 イソプロべニル、 ァリル、
[0017] 2 —ブテニル、 2—メチルー 2 —ブテニル、 3 —ペンテ ニル、 4一へキセニル基等の炭素数 2〜6の直鎖状又は 分枝状のアルケニル基を例示することができる。 水酸基 を有する低級アルキル基としては、 例えばヒ ドロキシメ チル、 2—ヒ ドロキシェチル、 2—ヒ ドロキシプロピル、
[0018] 3 — ヒ ドロキシプロピル、 2 , 3 —ジヒ ドロキシプロピ ル、 2, 3 —ジヒ ドロキシブチル、 2, 3 —ジヒ ドロキ シペンチル、 2, 3 —ジヒ ドロキシへキシル基等の水酸 基を 1個又は 2個含む炭素数 1〜 6の直鎖状又は分枝状 のアルキル基を例示することができる。 ケ トアルデヒ ド 基を有する低級アルキル基としては、 例えば 2—ォキソ 一 2—ホルミ ル一 1 ーェチル、 2—ォキソ一 3—ホルミ ルー 1 一プロピル、 3—ォキソ一 3—ホノレミノレー 1 ープ 口ピル、 3—ォキソ一 4 ーホノレミノレー 1 一ブチル基等の α -若しく は 3—ケ トアルデヒ ド基を有する炭素数 1 〜 6のアルキル基を挙げることができる。
[0019] 又上記一般式 ( I ) において Rり 及び R 3 で示される 低級アルコキシ基と しては、 例えば、 メ トキシ、 ェ トキ シ、 η—プロボキシ、 イソプロボキシ、 η—ブトキシ、 イソブトキシ、 s e c —ブトキシ、 t e r t —ブトキシ、 ペンチルォキシ、 へキシルォキシ基等の炭素数 1 〜 6の 直鎖状又は分枝状のアルコキシ基を例示することができ る。 環状アルキル基としては、 例えばシク ロプロビル、 シクロブチル、 シク ロペンチル、 シクロへキシル基等の 炭素数 3〜 6の環状のアルキル基を例示することができ る。 6員環含窒素複素環基と しては、 ピリ ジル、 ピペリ ジノ、 モルホリ ノ基等の複素環基を挙げることができる。
[0020] R 2 と R 3 が互いに結合して環状構造を形成し、 その環 状構造の中に更に酸素原子或いは窒素原子を含んでもよ いものとしては、 ピロ リ ジン、 ピぺリ ジン、 モルホリ ン、 ピぺラジン等を挙げることができる。
[0021] 本発明の 4 ーデソキシ一 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 誘導体の薬学的に許容される塩と しては、 例えばギ酸、 酢酸、 プロピオン酸、 ト リ フルォロ酢酸、 酒石酸、 リ ン ゴ酸、 マレイ ン酸、 フマル酸、 コハク酸、 シユウ酸等の 有機酸、 塩酸、 臭化水素酸、 硫酸、 リ ン酸等の無機酸等 との塩が挙げられる。
[0022] 上記一般式 ( I ) の化合物のうち、 好ま しい化合物は
[0023] R j が水素原子又はベンジルォキシ力ルボニル基であり、 尺が— (C H2 ) n R2 R3 基で表わされる化合物で あ O o
[0024] また最も好ま しい化合物は、 R が水素原子であり、 Rがー (C H2 ) n N R 2 R, 基において nが 2又は 3 を示し、 R2 及び R3 が同一又は相異なって水素原子、 一 N (R a ) (R b ) 基 (R a及び R bは同一又は相異 なって低級アルキル基を示す。 又 R aと R bは互いに結 合して低級アルキル置換ピペラジノ基を形成してもよい。
[0025] ) 、 6員環含窒素複素環基もしく は— N (R c ) (R d) 基 (R c及び R dは同一又は相異なって低級アルキル基 を示す。 ) で置換されてもよい低級アルキル基、 又は R 2 と R3 は互いに結合して環状構造を形成し、 その環状 構造の中に更に酸素原子或いは窒素原子を含んでいても よく、 更に環状構造に低級アルキル基又はピぺリ ジノ基 を有してもよい基で表わされる化合物である。
[0026] 一般式 ( I ) で表わされる本発明化合物は、 例えば下 記反応工程式 1 に従い製造することができる。
[0027] <反応工程式 1 >
[0028]
[0029] R2
[0030] HN( (IV)
[0031] R3
[0032]
[0033] (ig) [式中、 R4 はメチル基、 ベンジルォキシカルボニル基、 ハロゲン原子を有してもよい低級アル力ノィル基又は一 S i (R ) (R y ) (R z ) 基 (ここで、 R x、 R y 及び R zは前記に同じ) を、 R 5 は低級アルケニル基を、 R 6 は水酸基を有する低級アルキル基を、 R7 は一 ( C
[0034] H 2 ) ffi C H O基 (ここで、 mは前記に同じ) 又はケ ト アルデヒ ド基を有する低級アルキル基を、 R。 は一 ( C Hつ ) — C H O基を、 R9 はメチル基、 ベンジルォキシ カルボニル基、 ハロゲン原子を有してもよい低級アル力 ノィル基又は一 S i (R X ) (R y ) (R z ) 基 (こ こ で、 R x、 R y及び R z は前記に同じ) を示す。 R 2 、 R , 及び nは前記に同じ。 但し、 と R 9 は同一では ないものとする。 ]
[0035] 以下に上記反応工程式の各工程につき説明する。
[0036] < A工程〉
[0037] —般式 (Π) で表わされる公知の 4 ーェピポ ドフイ ロ トキシンと一般式 (ΠΙ) で表わされる低級ァ 'レケニルシ ランを適当な溶媒中でルイス酸存在下に反応させること により、 一般式 ( I ) 中 Rが低級アルケニル基である目 的の一般式 ( I a ) で表わされる誘導体を得る。 溶媒と しては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 例えばジクロロメ タン、'クロ口ホルム、 1 , 2—ジクロ ロェタ ン等のハロゲン化炭化水素類、 テ トラ ヒ ドロフラ ン、 ジォキサン等のエーテル類等の非プロ ト ン性溶媒が 使用できる。 ルイス酸としては、 例えば、 四塩化チタン、 ト リメチルシ リルト リ フルォロメ タ ンスルホネー ト、 臭 化亜鉛、 三フッ化ホウ素ェチルエーテル等が使用できる。 反応の割合は、 一般式 (m) の化合物を一般式 (π) の 化合物の 1〜 5倍モル量、 ルイス酸を一般式 (π) の化 合物の 0. 5〜 3倍モル量用いるのが好ま しい。 又、 反 応温度は一 100〜: L 00で、 好ま しく は一 20〜 20 PCで行なわれる。
[0038] < B工程〉
[0039] A工程で得られた一般式 ( l a) で表わされる誘導体 を不活性溶媒中で酸化することにより、 一般式 ( I ) 中 Rが水酸基を有する低級アルキル基である目的の一般式 ( l b) で表わされる誘導体を得る。 溶媒としては例え ば四塩化炭素、 ァセ トニト リル、 酢酸、 水、 ピリ ジン等 を単独で又は混合して使用できる。 酸化剤としては、 例 えば酸化ルテニウム、 過ヨウ素酸ナ ト リ ウム、 四酸化ォ ス ミ ゥム等が使用できる。 反応の割合は一般式 ( l a) の化合物に対し酸化剤を 0. 1〜2倍モル量用いるのが 好ま しい。 反応温度は一 1 0〜80 °C、 好ま しく は 0〜 20でである。 < c工程〉
[0040] A工程で得られた一般式 ( I a ) で表わされる誘導体 を不活性溶媒中で同時に酸化還元することにより、 一般 式 ( I ) 中 Rがー (C H2 ) 0 C H O基又はケ トアルデ ヒ ド基を有する低級アルキル基である目的の一般式
[0041] ( I c ) で表わきれる誘導体を得る。 溶媒としては例え ば四塩化炭素、 塩化メ チレン、 酢酸、 水、 テ トラ ヒ ドロ フラ ン、 ピリ ジン等を単独で又は混合して使用できる。 還元剤としては、 例えばボラン一ジメチルスルフィ ド、 サイア ミルボラン一ジメチルスルフィ ド等が使用でき、 酸化剤としては、 例えばクロム酸、 ピリ ジニゥムクロ口 クロメー ト等が使用できる。 反応の割合は一般式 ( l a ) の化合物に対し還元剤を 0, 5〜2倍モル量、 酸化剤を 1〜 3倍モル量用いるのが好ま しい。 反応温度は一 1 0 〜50で、 好ま しく は0〜20 でぁる。
[0042] < D工程 >
[0043] B工程で得られた一般式 ( l b) で表わされる誘導体 を不活性溶媒中で酸化することによつても、 一般式 ( I ) 中 Rがー (C H2 ) m C H 0基又はケ トアルデヒ ド基を 有する低級アルキル基である目的の一般式 ( I c ) で表 わされる誘導体を得ることができる。 溶媒としては例え ば四塩化炭索、 塩化メチレン、 酢酸、 テ トラ ヒ ドロフラ ン、 ジェチルエーテル、 ベンゼン等を単独で又は混合し て使用できる。 酸化剤としては、 例えば過マンガン酸力 リウム、 四酢酸鉛、 ピリ ジニゥムクロロクロメ一ト等が 使用できる。 反応の割合は一般式 ( l b) の化合物に対 し酸化剤を 0. 8〜3倍モル量用いるのが好ま しい。 反 応温度は 0〜50で、 好ま しく は 0〜20でである。 く E工程 >
[0044] C工程又は D工程で得られた一般式 ( I c ) で表わさ れる誘導体を不活性溶媒中、 触媒の存在下に接触還元す ることにより、 一般式 ( I ) 中 が— (C H2 ) m C H
[0045] 0基である目的の一般式 ( I d) で表わされる誘導体を 得ることができる。 溶媒としては反応に関与しないもの であれば特に制限はなく、 例えば酢酸ェチル、 メ タノー ル、 テトラ ヒ ドロフラ ン等を単独で又は混合して使用で きる。 触媒と しては、 例えばパラジウム黒、 白金等が使 用できる。 水素圧は常圧〜 3気圧、 好ま しく は常圧〜 2 気圧である。 反応温度は 0〜40 、 好ま しく は室温で ある。
[0046] く F工程 >
[0047] E工程で得られた一般式 ( I d) で表わされる誘導体 を不活性溶媒中、 塩基の存在下にァシル化剤又はシリル 化剤と反応させることにより、 一般式 ( I e ) で表わさ れる目的の誘導体を得るこ とができる。 溶媒と しては反 応に関与しないものであれば特に制限はなく 、 例えば四 塩化炭素、 塩化メチレン、 テ トラヒ ドロフラン、 ベンゼ ン、 ジメ チルホルムア ミ ド、 ジメ チルァセ トア ミ ド等を 単独で又は混合して使用できる。 塩基と しては、 例えば ピリ ジン、 ジメチルァ ミ ノ ピリ ジン、 イ ミ ダゾール等を 使用できる。 ァシル化剤としては、 例えば無水酢酸、 無 水プロピオン酸、 無水酪酸、 無水イソ酪酸、 無水吉草酸、 無水クロル酢酸等の酸無水物、 ァセチルク ロライ ド、 ブ 口ピオニルクロライ ド、 n—へキサノイルク口ライ ド、 クロルァセチノレク ロライ ド、 ジクロルァセチルクロライ ド、 ト リ ク ロルァセチルクロライ ド、 ベンジルォキシカ ルポニルクロライ ド等の酸ハロゲン化物等を使用できる。 シリル化剤としては、 例えば t 一プチルジメチルシリル クロライ ド、 ト リ イ ソプロビルシリルクロライ ド、 t一 プチルジフヱニルシリルクロライ ド等を使用できる。 反 応の割合は一般式 ( I d ) の化合物に対し塩 5を
[0048] 0 , 0 1〜 7倍モル量、 ァシル化剤又はシ リル化剤を 1 〜 5倍モル量用いるのが好ま しい。 反応温度は 0〜5 0 、 好ま しく は 0〜2 0。Cである。
[0049] く G工程〉
[0050] C工程又は D工程で得られた一般式 ( I c ) で表わさ れる誘導体と一般式 (IV) で表わされるァミ ン化合物を 不活性溶媒中で、 還元的ァミ ノ化を行なう ことにより、 一般式 ( I ) 中 Rがー (C H2 ) D N R2 R3 基である 目的の一般式 ( I f ) で表わされる誘導体を得ることが できる。 溶媒としては反応に関与しないものであれば特 に制限はなく、 例えばメ タノール、 ェタノール等のアル コール類、 テトラヒ ドロフラン、 ジォキサン等のエーテ ル類、 酢酸、 ギ酸等の有機酸、 水等を単独で又は混合し て使用できる。 還元剤としては、 例えば水索化ホウ素ナ ト リウム、 シァノ水素化ホウ索ナト リウム等が使用でき る。 反応の割合は一般式 ( I c ) の化合物に対し、 一般 式 (IV) で表わされるァミ ン化合物を 0. 9〜 3倍モル 量、 還元剤を 1〜 3倍モル量用いるのが好ま しい。 反応 温度は C!〜 5 0。C、 好ま しく は 0〜 2 0てである。
[0051] く H工程 >
[0052] G工程で得られた一般式 ( I f ) で表わされる誘導体 を不活性溶媒中、 触媒の存在下に接触還元することによ り、 一般式 ( I g ) で表わされる目的の誘導体を得るこ とができる。 溶媒としては反応に関与しないものであれ ば特に制限はなく、 例えば酢酸ェチル、 メタノール、 テ トラヒ ドロフラン、 ァセ トニト リル等を単独で又は混合 して使用できる。 触媒としては、 例えばパラジウム黒、 白金等を使用できる。 水素圧は常圧〜 3気圧、 好ま しく は常圧〜 2気圧である。 反応温度は 0〜40°C、 好ま し く は室温である。
[0053] また、 上記反応により得られた本発明化合物は、 これ を例えば塩化メ チレン、 1 , 2—ジク ロロェタ ン、 テ ト ラ ヒ ドロフラ ン、 酢酸ェチル等の溶媒中、 室温程度の温 度下に、 前記有機酸または無機酸と反応させる等の従来 公知の方法により、 塩の形態とすることができる。
[0054] 上記工程によって得られた化合物 ( I a) 、 ( l b) . ( I c ) ( I d) . ( I e ) . ( I f ) 及び ( I g) は、 濃縮、 濾過、 再結晶、 各種ク 口マ トグラフィ 一等の 通常当分野で用いられる手段により単離、 精製される。
[0055] 本発明の化合物を人を含む哺乳動物の悪性腫瘍の治療 剤として使用するに当っては、 目的に応じて各種の薬学 的投与形態を採用可能であり、 該形態と しては、 例えば、 経口剤、 注射剤、 坐剤等のいずれでもよく、 これらの投 与形態は、 夫々当業者に公知慣用の製剤方法により製造 できる。
[0056] 経口用固型製剤を調製する場合は、 本発明化合物に賦 形剤、 必要に応じて結合剤、 崩壊剤、 滑沢剤、 着色剤、 矯味剤、 矯臭剤等を加えた後、 常法により錠剤、 被覆錠 剤、 顆粒剤、 散剤、 カプセル剤等を製造する こ とができ る。 そのような添加剤と しては、 この分野で一般的に使 用されるもので良く、 例えば、 賦形剤としては乳糖、 白 糖、 塩化ナ ト リ ウム、 ブ ドウ糖、 デンプン、 炭酸カルシ ゥム、 カオリ ン、 微結晶セルロース、 珪酸等を、 結合剤 と しては水、 エタノール、 プロパノール、 単シロップ、 ブドウ糖液、 デンプン液、 ゼラチン液、 カルボキシメ チ ルセルロース、 ヒ ドロキシプロ ビルセルロース、 ヒ ドロ キシプロ ピノレスターチ、 メチルセルロース、 ェチノレセル ロース、 シェラ ッ ク、 リ ン酸カルシウム、 ポリ ビニルビ ロ リ ドン等を、 崩壊剤と しては乾燥デンプン、 アルギン 酸ナ ト リ ウム、 カ ンテン末、 炭酸水素ナ ト リ ウム、 炭酸 カルシウム、 ラウ リル硫酸ナ ト リ ウム、 ステア リ ン酸モ ノ グリセリ ド、 乳糖等を、 滑沢剤と しては精製タルク、 ステアリ ン酸塩、 ホウ砂、 ポ リエチレングリ コール等を、 矯味剤としては白糖、 橙皮、 クェン酸、 酒石酸等を例示 できる。
[0057] 経口用液体製剤を調製する場合は、 本発明化合物に矯 味剤、 緩衝剤、 安定化剤、 矯臭剤等を加えて常法により、 内服液剤、 シロップ剤、 エリキシル剤等を製造するこ と ができる。 この場合の矯味剤と しては上記に挙げられた もので良く 、 緩街剤と してはクェン酸ナ ト リ ゥム等が、 安定化剤としては トラガン ト、 アラ ビアゴム、 ゼラチン 等が挙げられる。
[0058] 注射剤を調製する場合は、 本発明化合物に p H調節剤、 緩衝剤、 安定化剤、 等張化剤、 局所麻酔剤等を添加し、 常法により皮下、 筋肉内、 静脈内用注射剤を製造するこ とができる。 この場合の p H調節剤及び緩衝剤と しては クェン酸ナ ト リ ウム、 酢酸ナ ト リ ウム、 リ ン酸ナ ト リ ウ ム等が挙げられる。 安定化剤としてはピロ亜硫酸ナ ト リ ゥム、 E D T A、 チォグリ コール酸、 チォ乳酸等が挙げ られる。 局所麻酔剤としては塩酸プロ力イ ン、 塩酸リ ド 力イ ン等が挙げられる。
[0059] 坐剤を調製する場合は、 本発明化合物に当業界におい て公知の製剤用担体、 例えばポリエチレングリ コール、 ラノ リ ン、 カカオ油脂、 脂肪酸ト リ グリ セライ ド、 ウイ テツブゾール (登録商標) 等を、 更に必要に応じてツイ ーン (登録商標) のような界面活性剤等を加えた後、 常 法により製造することができる。
[0060] 上記の各投与単位形態中に配合されるべき木発明化合 物の量は、 これを適用すべき患者の症状により或いはそ の剤型等により一定でないが、 一般に投与単位形態当り 経口剤では約 1〜: L 0 0 0 m g、 注射剤では約 0 . 1 〜
[0061] 5 0 0 m g、 坐剤では約 5〜: L 0 0 0 m g とするのが望 ま しい。 また、 上記投与形態を有する薬剤の 1 日当りの 投与量は、 患者の症状、 体重、 年齢、 性別等によって異 なり一概に決定できないが、 通常成人 1 日当り約 0. 1 〜5000m g、 好ま しく は 1〜: L O O O m gとすれば 良く、 これを 1回又は 2〜4回程度に分けて投与するの が好ま しい。
[0062] 発明を実施するための最良の形態 次に実施例、 薬理試験及び製剤例を示し、 本発明を更 に詳しく説明する。
[0063] 実施例 1
[0064] 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4ーァリノレー 4一ェビポ ドフィ 口 卜 キシン (化合物 1 ) の合成
[0065] 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二 ノレ一 4ーェビポ ドフイ ロ トキシン l g ( 1. 87 m m o 1 ) のジクロロメ タン 1 5 m 1溶液に ト リメチルァリル シラン 426m g (3, 73 m m o 1 ) を加え、 一 1 0 〜 0。Cに冷却した。 この溶液に三フッ化ホウ素ェチルェ —テル 0. 6m 〗 を加え 1時間撹拌した。 反応後ピリ ジ ン 0. 6 m 1を加え、 冷希塩酸中にあけ、 酢酸ェチルで 抽出した。 有機層を乾燥後留去し、 カラムクロマ トグラ フィ 一 (シリカ 50 g、 展開溶媒 ; クロ口ホルム) で精 製後、 エーテルにて結晶化させ、 4ーデソキシ—4' 一 デメ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 ァ リルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン (化合物 1 ) を 1 g (収率 9 5. 7 %) 得た。
[0066] 融点 1 3 5— 1 3 7
[0067] [ a ] 2 = - 7 0. 0 3。 ( C = l . 3 0 , D M S 0)
[0068] - NMR ( C D C l 3 ) 5 ppni :
[0069] 7. 3 0 - 7. 4 3 ( 5 H, m, - O C O O C H H.) 6. 7 2 ( 1 H, s , 5位 H) 、 6. 4 6 ( 1 H, s , 8位 H) 、 6. 3 1 ( 2 H, s , 2' 位, 6' 位 H) 、 5. 94 ( 1 H, d, J = 1. 5 H z , 一 O C互 2 〇一)
[0070] 、 5. 9 3 ( 1 H, d , J = 1. 5 H z , - 0 C K 2 0 一) 、 . 8 0 ( 1 H, d - d - t , J = 1 7 , 1 0. 5 , 6. 5 H z , - C H 2 C H = C H2 ) 5. 2 5 ( 2 H, s , - 0 C 00 C H J P h) 、 5. 1 2 ( 1 H, d - d - t , J = 1 7 , 2 , 1. 5 H z , - C H 2 C H
[0071] =じ且2 ) 、 5. 1 1 ( 1 H, d - q , J = 1 0. 5 , 1. 5 H z , 一 C H 2 C H = C互 2 ) 、 4. 5 8 ( 1 H, d, J = 5 H z , 1位 H) 、 4. 2 5 ( 2 H, m, 1 1 位 H) 、 3 , 6 8 ( 6 H, s , 3 ' 位, 5 ' 位一 O C且 3 ) 、 3. 2 7 ( 1 H, m, 4位 H) 、 3. 0 7 ( 1 H, d - d , J = 1 4. 5 , 5 H z, 2位 H) 、 2. 9 3 ( 1 H, m, 3位 Η) 、· 2. 5 7 ( 1 H, m, - C H 2 C H = C H2 ) 、 2. 42 ( 1 H, m C H C H
[0072] C H2 )
[0073] 実施例 2
[0074] 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4一 ( 2 , 3—ジヒ ドロキシー 1 - プロビル) 一 4ーェビポ ドフイ ロ トキシン (化合物 2) の合成
[0075] 実施例 1で得た 4ーデソキシー 4 ' 一デメチルー 4' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4ーァリル一 4—ェ ピポ ドフイ ロ トキシン 79mm o l ) のピリ ジン 2 m 1溶液に四酸化オス ミ ウム 455 m g ( 7
[0076] 9 mm o 1 ) を加え、 室温で 1時間撹拌した。 反応後、 亜硫酸水素ナト リ ウム 0. 8 gの含水ピリ ジン溶液を加 え、 30分撹拌した。 反応混合物を酢酸ェチルで抽出し 希塩酸、 水で洗浄した後、 -乾燥した。 有機層を濃縮後、 得られた残渣をカラムクロマ トグラフィ ー (シリカ 50 g、 展開溶媒 ; クロロホルム : メタノール = 20 : 1) で精製した。 濃縮して得られた残渣をェ一テルにて結晶 化させ、 4ーデソキシ一 4' 一デメチルー 4' 0—べ ンジルォキシカルボ二ルー 4— ( 2 , 3—ジヒ ドロキシ 一 1一プロピル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合 物 2) を 0 g (収率 94. 2 %) 得た 2 融点 7 0. 5 - 1 7 2 °C
[0077] [ α ] 20 一 6 2. 2 5 ° ( C = 0. 6 6 , D M S O )
[0078] H - N M R (D M S O - d , ) δ ppm :
[0079] 7. 4 0 ( 5 H , s , - O C O O C H 2 Ph) 6. 9 4 , 6. 84 ( 1 H , s , 5位 H) 、 6. 4 4 ( 1 H , s , 8位 H) 、 6. 3 4 , 6. 3 2 ( 2 H , s , 2 ' 位, 6 ' 位 H) 、 5. 9 6 ( 2 H, s , - 0 (:且2 0 -) 、 5. 2 3 ( 2 H, s , - 0 C 0 0 C H 2 P h ) 、 4. 7 8 ( 1 H, m, - C H 2 C H ( 0且) C H 2 O H) 、 4. 5 8 ( 1 H , d, J = 6. 0 H z , 1位 H) 、 4. 5 2 ( 1 H, m, - C H 2 C H ( O H) C H 2 O H ) 、 4.
[0080] 3 5 ( 1 H , m, 位 H ) 、 4. 1 7 ( 1 H, m
[0081] 位 H ) 、 3. 6 2 ( 6 H, s , 3 ' 位, 5 ' 位一
[0082] O C Hつ ) 3 7 6 9 (4 H , m C H
[0083] C互 (O H ) C ii 2 O H , 4位 H) 、 2. 9 4 - 3. 0 2 ( 1 H, m, 2位 H:) 、 2. 1 9 ( 1 H, m, 3位 H ) 、 1 . 6 7 ( 1 H , m, - C H C H ( O H、 C H 2 O H) 、 1 . 2 4 - 1 . 3 2 ( 1 H, m, - C H 2 C H ( O H) C H 2 O H)
[0084] 実施例 3
[0085] 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4 ーホルミ ルメ チルー 4一ェピポ ド フィ 口 トキシン (化合物 3) の合成
[0086] 実施例 2で得た 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4' — 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 ( 2 , 3—ジヒ ドロキシー 1一プロビル) 一 4一ェピポ ドフィ ロ トキシ ン l g (l. 69mm o l ) のベンゼン 80m l溶液に 四酢酸鉛 795 m g ( 1. 79 mm o l ) を加え、 室温 で 30分撹拌した。 反応後濾過し、 濾液を濃縮した後得 られた残渣をカラムク ロマ トグラフィ ー (シリ カ 70 g. 展開溶媒 ; ク ロ口ホルム : メ タノール = 20 : 1) で精 製し、 エーテルにて結晶化させ、 4ーデソキシー 4' 一 デメチルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 ホルミ ルメチルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン (化合物 3) を 934 m g (収率 98. 7 %) 得た。
[0087] 融点 180— 182。C
[0088] [a] 20 D = - 71. 04。 (C = l. 32, DMS 0) 1 H - N MR (DMS O - d 6 ) δ ppm :
[0089] 9. 73 ( 1 H, s, 一 C HO) 、 7. 39 (5 H, s , - O C O O C H2 P ) 6. 88 (1 H, s, 5位 H) 、 6. 46 ( 1 H, s, 8位 H:) 、 6. 35 (2 H, s , 2' 位, 6' 位 H) 、 5. 96 (2 H, s, - 0 C H 2 0 -) 、 5. 23 (2 H, s , - 0 C 00 C H o P h) 、 . 54 ( 1 H, d , J = 3. 6 H z , 1位 H) 、 3. 9 6 - 4. 3 2 ( 1 H, m, 1 1 位 H) 、 3. 6 3 ( 6 H, s , 3' 位, 5' 位一 O C且 3 ) 、 3. 4 8 - 3. 9 2 ( 1 H, m, 1 1 3位 H) 、 2. 5 6 - 3. 4 0 ( 5 H, m, 2位, 3位, 4位 H, - C H2 C H 0) 実施例 4
[0090] 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジノレ ォキシカルボ二ルー 4 一 ( 2—ホルミ ノレー 1 ーェチル) 一 4 ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 4 ) の合成
[0091] 実施例 1で得た 4ーデソキシー 4 ' 一デメチルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4ーァ リノレー 4ーェ ピポ ドフイ ロ トキシン 4 g ( 7. 1 7 mm o l ) のテ ト ラ ヒ ドロフラ ン 4 0 m 1溶液に 2 Mのボラ ンージメ チル スルフイ ドのテ トラ ヒ ドロフラ ン溶液 4. 3 m l (8. 6 mm o 1 ) を氷冷下滴下した後、 室温で 1時間反応し た。 反応液を濃縮して得られた残渣を塩化メチレン 80 m l に溶解し、 ピリ ジニゥムク ロ口ク ロメ ー ト 3. 0 g ( 1 3. 9 mm o 1 ) を加え、 室温で撹拌した。 反応後、 酢酸ェチル 1 0 0 m 1 を加え、 不溶物をフ口 リ ジルを用 いて濾過した。 濾液を濃縮し、 得られた残渣をカラムク 口マ トグラフィ ー (シ リ カ 5 0 g、 展開溶媒 ; へキサン : 酢酸ェチル = 1 : 1 ) で精製し、 エーテルにて結晶化さ せ、 4ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジ ルォキシカルボ二ルー 4一 ( 2—ホルミ ノレ一 1 —ェチル) 一 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン (化合物 4) を 85 g (収率 44. 9 %) 得た。 融点 53 - 1 5 5 °C
[0092] 20
[0093] [α] D - 6 . 0 9° (C = 0, 38, DM S O)
[0094] 1 H - N MR ( C D C 1 3 ) δ ppm : 9. 83 ( 1 H, s , - C H O) 、 7. 4 0 ( 5 Hf m, - O C O O C H2 ) . 6. 83 ( 1 H, s , 5位 H) 、 6. 4 5 ( 1 H, s , 8位 H:) 、 6. 28 (2 H, s ,
[0095] 2' 位, 6' 位 H) 、 5. 94 (2 H, s , - O C H 2
[0096] 0—) 、 5. 2 5 ( 2 H, s , - O C O O C 2 P h) 4. 58 ( 1 H, d , J =4. 6 H z, 1位 H) 、 4,
[0097] 3 7 ( 1 H, m, な位 H) 、 4 ( 1 H, m, 3位 H) 、 3. 6 7 (6 H, s, 3' 位, 5' 位一
[0098] 0 C H ) . 3. 04 - 3 1 0 ( 1 H, m, 4位 H) 、 2. 86 - 3. 0 0 (2 H, m, 2位, 3位 H) 、 2.
[0099] 4 9 - 2. 6 7 ( 2 H, m, - C II 2 C H O) 、 1. 8 3 - 2. 2 1 ( 2 H, m, - C互 2 C H 2 C H O) 実施例 5
[0100] 4ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4ーホルミ ノレメ チル 一 4 -ェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 5) の合成 実施例 3で得た 4ーデソキシー 4 ' 一デメチルー 4 ' — 0—ベンジルォキシカルボ二ルー 4 ーホノレミ ルメ チル 一 4 ーェピポ ドフイ ロ トキシン l O O m g ( 0. 1 7 8 mm o 1 ) の酢酸ェチル : メ タノール ( 1 : 1 ) 1 0 m 1溶液に 5 %パラ ジウム炭索 3 0 m gを加え、 水索気流 中 ( 1気圧) で接触還元を行なった。 反応後、 5 %パラ ジゥム炭素を濾去し、 濾液を減圧下濃縮した。 得られた 残渣をエーテルにて結晶化させ、 4 ーデソキシー 4 ' 一 デメ チルー 4一ホルミ ノレメ チルー 4一ェピポ ドフィ 口 ト キシ ン (化合物 5 ) を 7 5 m g (収率 9 8. 9 %) 得た, 融点 2 3 7 — 2 3 9。C
[0101] [ a ] 20 D = - 1 1 0. 1 2。 ( C = 0. 3 8,
[0102] D M S 0)
[0103] 1 H - N MR ( C D C 1 3 ) δ ppm :
[0104] . 7 2 ( 1 H, s , - C H 0) 、 8. 2 2 ( 1 H, s , 4 ' — O H) 、 6. 8 6 ( 1 H, s , 5位 H:) 、 6. 4 3 ( 1 H, s , 8位 H) 、 6. 2 1 ( 2 H, s , 2 , 位 t> ' 位 H) 、 5. 9 6 , 5. 94 ( 2 H, s 一 O C H 2 0 -) 、 4. 4 1 ( 1 H, d , J = 5. 2 8 H z, 1 位 H) 、 4. 1 5 ( 1 H, d - d , J = 7. 9 , 3. 9 H z , 1 1 位 H:) 、 3. 6 6 - 3. 7 3 ( 1 H, m, l l /S位 H:) 、 3. 6 2 ( 6 H, s , 3 ' 位, 5 ' 位一 O C且 3 ) 、 2. 5 6 - 3. 4 0 ( 5 H, m, 2位, 3 位, 4位 H, - C H2 C H 0)
[0105] 実施例 6
[0106] 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4一 (2—ォキソ一 2—ホルミ ノレー 1—ェチル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 6 ) の合成
[0107] 実施例 2で得た 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 ( 2 , 3—ジヒ ドロキシー 1一プロピル) 一 4一ェピポ ドフィ 口 トキシ ン 1 00m g (0. 1 7mm o l ) の塩化メ チレン 5m
[0108] 1溶液にピリ ジニゥムク ロ口ク ロメー ト 73m g ( 0. 34 mm o 1 ) を加え、 室温で 1時間撹拌した。 反応後 酢酸ェチルを加え、 冷希塩酸、 飽和食塩水にて洗浄後、 硫酸マグネシウムにて乾燥した。 溶媒留去後、 カラムク ロマ 卜グラフィ 一 (シリカ 20 g、 展開溶媒 ; ク ロロホ ルム : メ タノール- 20 : 1) で精製し、 エーテルにて 結晶化させ、 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4' 一, 0 一べンジルォキシカルボ二ルー 4一 (2—ォキソ一 2— ホルミ ノレー 1ーェチル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 6) を 45m g (収率 45. 0 %) 得た。
[0109] - NMR (C D C 13 ) δ ppm :
[0110] 9, 85 ( 1 H, s , - C H C 0 C H 0) 7. 38 ( 5 H, m, - O C O O C H 2 Ph) 6. 6 1 ( 1 H, s , 5位 H) 、 6. 4 5 ( 1 H, s, 8位 H ) 、 6. 3 1 ( 2 H, s, 2 ' 位, 6 ' 位 H ) 、 5. 9 3 ( 2 H, s , — O C H 2 0 -) 、 5. 2 5 ( 2 H, s , - O C O
[0111] O C Hつ P h ) 、 4. 5 5 ( 1 H, d , J 3. 6 H z , 位 H) 、 4. 1 2 - 4. 4 0 ( 1 H, m, 1 1 a位 H)
[0112] 、 3. 4 8 - 4. 0 0 ( 1 H, m, J3位 H) 、 3.
[0113] 6 8 ( 6 H, s , 3 ' 位, 5 ' 位— 0じ且3 ) 、 2. 6 0 - 3. 0 8 ( 5 H, m, 2位, 3位, 4位 H, - C H 2 C 0 C H 0)
[0114] 実施例 7
[0115] 4 ーデソキシー 4 ' 一デメチルー 4 ' 一 0—ク ロルァ セチルー 4 ーホノレミ ノレメ チルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキ シン (化合物 7 ) の合成
[0116] 実施例 5で得た 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4一 ホルミ ルメ チノレー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 5 0 m g
[0117] ( 0. 7 m m o 1 ) のテ トラ ヒ ドロフラ ン 5 m l 液に無水ク口ル酢酸 5 0 m g ( 0. 2 9 2 m m o l ) 及 びジメ チルァ ミ ノ ピリ ジン 1 0 m g ( 0. 0 8 1 m m o 1 ) を加え、 室温で 1晚撹拌した。 反応後溶媒を留去し 得られた残渣を分取用薄層ク ロマ トグラフィ ー (展開溶 媒 ; ク ロ口ホルム : メ タノール = 3 0 : 1 ) にて精製し た。 溶出して得られた残渣を酢酸ェチルー n —へキサン にて結晶化後、 濾集、 分取して 4 ーデソキシー 4 ' ーデ メチルー 4 ' — 0—ク ロルァセチルー 4一ホルミ ルメチ ルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン (化合物 7 ) を 5 0 m g (収率 9 0. 0 ) 得た。
[0118] 融点 1 1 9一 1 2 1。C
[0119] la ] 20 D = - 8 5. 2 1 ° ( C = 0. 3 9 9 ,
[0120] D M S 0 )
[0121] } Η - NMR (C D C l 3 ) 5 ppra :
[0122] 9. 64 ( 1 H, s , - C且 0) 、 6. 4 0 ( 1 H, s ,
[0123] 5位 H) 、 6. 2 5 ( 1 H, s , 8位 H) 、 6. 1 0 ( 2 H, s , 2 , 位, 6 ' 位 H) 、 5. 7 3 ( 1 H, s , - 0 C H 0 -) 、 5. 7 2 ( 1 H, s , - 0 ( 且2 0 一) 、 4. 3 6 ( 1 H, d , J = 4. 9 H z , 1位 H) 、 4. 1 2 ( 2 H, s , C 1 C H 2 C O -) . 0 6
[0124] ( 1 H, d, J = 7. 2 H z, l l cr位 H) 、 3. 6 1 ( 1 H, m, 1 1 /S位 H:) 、 3. 4 6 ( 6 H, s, 3 ' 位, 5 ' 位一 O C H3 ) 、 3. 3 7 ( 1 H, t , J = 1 0. 5 H z , 2位 H) 、 2. 5 1 - 2. 8 5 (4 H, m, 3位, 4位 H, - (:且2 C H 0)
[0125] 実施例 8
[0126] 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0— ト リ ク ロ ルァセチルー 4ーホノレミ ルメ チルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン (化合物 8) の合成
[0127] 実施例 5で得た 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4一 ホルミ ルメ チルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 4. 26 g ( l O mm o l ) の塩化メチレン 50 m l溶液に ト リ ク ロルァセチルク ロライ ド 2. 36 g ( 1 3 m m o 1 ) 及びジメ チルア ミ ノ ビリ ジン 58 g ( 1 3 m m o 1 ) を加え、 室温で 1晩撹拌した。 反応後溶媒を留去し、 得 られた残渣をカラムク ロマ トグラフィ ー (展開溶媒 ; 酢 酸ェチル : n—へキサン ) にて精製した。 溶出 して得られた残渣をメ タノールにて結晶化後、 濾集、 分 取して 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4' 一 0— ト リ ク ロルァセチルー 4一ホルミ ノレメ チルー 4一ェピポ ドフ イ ロ トキシン (化合物 8) を 4. 1 0 g (収率 7 7
[0128] %) 得た
[0129] 融点 77 78°C
[0130] [α] 20
[0131] D == - 68. 96° (C = 0. 58, D M S O)
[0132] 1 H - NMR ( C D C 1 3 ) δ ρριπ : 9. 88 ( 1 H, s , — C H 0) 、 6. 63 ( 1 H, s ,
[0133] 5位 H) 、 6. 47 ( 1 H, s , 8位 H:) 、 6. 35
[0134] ( 2 H, s , 2' 位, 6' 位 H) 、 5. 96 ( 1 H, s, 一 O C H2 0 -) 、 4. 6 1 ( 1 H, d, J = 5. 2 H z, 1位 H) 、 4. 3 0 ( 1 H, t , J = 8. 9 H z f 1 1 位 H) 、 3. 8 0 ( 1 H, m, l l /S位 H) 、 3. 7 2 ( 6 H, s, 3 ' 位, 5 ' 位一 0 C H 3 ) 、 3. 6 0 ( 1 H, t , J = 9. 6 H z , 2位 H:) 、 2. 7 0 - 3. 1 0 (4 H, m, 3位, 4位 H, - C H 2 C H O) 実施例 9
[0135] 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—ァセチル 一 4一ホルミ ルメチルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン
[0136] (化合物 9 ) の合成
[0137] 実施例 5で得た 4 ーデソキシー 4 ' 一デメチルー 4一 ホルミ ルメチルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 5 0 m g ( 0. 1 1 7 mm o l ) のテ トラ ヒ ドロフラ ン 5 m l溶 液に無水酢酸 5 0 m g ( 0. 4 9 mm o l ) 及びジメチ ルア ミ ノ ビリ ジン 1 0 m g ( 0. 0 8 1 m m o l ) を加 え、 室温で 1晚撹拌した。 反応後溶媒を留去し、 得られ た残渣を分取用薄層クロマ トグラフィ 一 (展開溶媒 ; ク ロロホルム : メ タノール = 3 0 : 1 ) にて精製した。 溶 出して得られた残渣を n —へキサンにて結晶化後、 濾集 して 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—ァセチ ノレ一 4一ホノレミ ルメ チルー 4 ーェピポ ドフイ ロ トキシン
[0138] (化合物 9 ) を 4 0 m g (収率 7 3. 0 %) 得た。
[0139] 融点 1 3 0 - 1 3 3 3
[0140] [ a 20 D = - 88. 4 0。 ( C = 0. 5 , D M S 0) ^ - N MR C C D C ^ ) 5 ppm :
[0141] 9. 5 5 ( 1 H, s , -じ且0) 、 6. 3 0 ( 1 H, s 5位 H) 、 6. 1 6 ( 1 H, s , 8位 H:) 、 5. 9 9
[0142] ( 2 H, s, 2 ' 位, 6 ' 位 H) 、 5. 6 3 ( 1 H, s
[0143] 0 C且 2 0—) 、 5. 6 2 ( 1 H 0 C H 2 0
[0144] ) 、 4. 2 7 ( 1 H, d , J = 4. 9 H z , 位 H)
[0145] . 9 8 ( 1 H, t , J = 8. 2 H z , 位 H) 、
[0146] 3. 5 1 ( 1 H, m, 5位 H) 、 3 ( 6 H, s , 3 ' 位, 5 ' 位一 0 C H 3 ) 2 8 ( 1 H, t J = 9. 9 H z , 2位 H) 、 2. 4 2 - 2. 7 5 (4 H m, 3位, 4位 H, - C H 2 C H O) 、 1 9 7 ( 3 H s , - 0 C 0 C H 3 )
[0147] 実施例 1 0
[0148] 4 ーデソキシ一 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0— t 一プチ ルジフ エニノレシ リ ノレー 4 ーホノレ ミ ノレメ チノレー 4一ェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 0 ) の合成
[0149] 実施例 5で得た 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4一 ホルミ ノレメ チルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 5 0 m g
[0150] ( 0 7 m m o 1 ) のジメ チルホルムア ミ ド 5 m 1 溶液に、 t ーブチルジフ エ二ルシ リ ノレク ロライ ド 3 3 m g ( 0. 1 2 m m o 1 ) 及びジメ チルア ミ ノ ビリ ジン 7 2
[0151] 9 m s C O . 64 m m o 1 ) を加え、 室温で 1晚撹拌し た。 反応後酢酸ェチルー水を加え、 抽出、 乾燥した。 次 に溶媒を留去し、 得られた残渣を分取用薄層クロマ トグ ラフィ ー (展開溶媒 ; ク ロ口ホルム ·· メ タノール- 3 0 1 ) にて精製した。 溶出して得られた残渣を減圧下乾燥 して 4 ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 O — t—ブ チルジフヱニルシリル一 4一ホルミ ルメ チルー 4 ーェピ ポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 0 ) を 3 5 m g (収率 3 7. 4 %) 得た。
[0152] 1 H - NMR ( C D C 1 3 ) δ ριπ :
[0153] 9. 7 1 ( 1 H, s , - C H O) 、 7. 7 1 (4 H, m'
[0154] H 一 3 8 ( 6 H, m, S
[0155] ) . 6. 5 0 ( 1 H 5位 H)
[0156] 6. 3 8 ( 1 H, s, 8位 H) 、 6. 0 6 ( 2 H, s,
[0157] 2 ' 位, 6 ' 位 H) 、 5. 8 7 ( 2 H, s , - 0 C H
[0158] 0 — ) 、 4. 4 0 ( 1 H, d , J = 4. 9 H z , 1位 H)
[0159] 、 4. 1 6 ( 1 H, t, J = 7. 5 H z, a位 H)
[0160] 3. 7 0 ( 1 H, m, β位 H) 、 3. 4 3 ( 1 H, t , J = 9. 5 H z , 2位 H) 、 3. 28 ( 6 H, s , 3' 位, 5' 位- O C H3 ) 、 2. 4 7 - 2. 84 (4 H, m, 3位, 4位 H, — C H2 C H O) 、 1. 05 ( 9 H, s , — S i - t - B u )
[0161] 実施例 1 1
[0162] 4ーデソキシー 4一ホルミ ノレメ チルー 4ーェピポ ドフ イ ロ トキシン (化合物 1 1 ) の合成
[0163] 4ーェビポ ドフイ ロ トキシン 500 m g ( 1. 2mm o 1 ) のジク ロロメ タン 1 0 m 1溶液に、 ト リ メ チルァ リルシラン 274 m g (2. 4 m m o 1 ) を加え、 一 1
[0164] 0〜 0。cに冷却した。 この溶液に三フッ化ホウ素ェチル エーテル 0. 35m lを加え 4時間撹拌した。 反応後ビ リ ジン 0. 35m 1を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を乾燥後留去し、 カラムク ロマ トグラフィ ー (シ リ 力 50 g、 展開溶媒 ; 酢酸ェチル : へキサン = 1 : 2) で精製後、 エーテル、 へキサンにて結晶化させ、 濾集し、 4ーデソキシー 4ーァ リ ノレ一 4一ェピポ ドフィ 口 トキシ ンを 4 50 m g (収率 81. 1 %) 得た。 次にこの化合 物 200 m g (0. 46mm o l ) のピリ ジン溶液 4 m 1 に四酸化オス ミ ウム 1 1 6 m g (0. 46 m m o 1 ) を加え、 室温で 1時間撹拌した。 反応後、 亜硫酸水素ナ ト リ ウム 0. 1 gの含水ピリ ジン溶液を加え、 30分撹 拌した。 反応混合物を酢酸ェチルで抽出し、 希塩酸、 水 で洗浄した後、 乾燥した。 有機層を濃縮後得られた残渣 をカラムク ロマ トグラフィ ー (シ リ カ 50 g、 展開溶媒 ; ク 口口ホルム : メ タノール = 20 : 1 ) で精製した。 濃 縮して得られた残渣をエーテル、 へキサンにて結晶化さ せ、 濾集し、 4ーデソキシー 4— (2, 3—ジヒ ドロキ シー 1一プロピル) 一 4一ェビポ ドフィ 口 トキシンを 1 94 m g (収率 89. 3%) 得た。
[0165] 融点 144一 145で
[0166] [cr] 20 D =- 73. 42。 (C = 0. 52,
[0167] C H C 13 )
[0168] 次にこの化合物 1 00m g (0. 21 mm o l ) のべ ンゼン 1 0 m 1溶液に四酢酸鉛 1 1 3 m g (0. 25m m o 1 ) を加え、 室温で 20分撹拌した。 反応後濾過し 濾液を濃縮した後得られた残渣をカラムク口マ トグラフ ィ ー (シ リ カ 20 g、 展開溶媒 ; ク ロ口ホルム : メ タノ ール = 20 : 1 ) で精製し、 エーテル : へキサン ( 1 : 1 ) にて結晶化させ、 4ーデソキシー 4一ホルミ ルメチ ルー 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 1 ) を 90 m g (収率 97. 4%) 得た。
[0169] 融点 1 57 - 1 59。C
[0170] [な ] =ー 1 05, 82° (C = l . 253, D M S 0 )
[0171] 1 H - NMR ( C D C 1 3 ) <5 ppm :
[0172] 9. 84 ( 1 H, s , - C且 0) 、 6. 29 ( 1 H, s , 5位 H) 、 6. 46 ( 1 H, s, 8位 H) 、 6. 28 (2 H, s , 2' 位, 6' 位 H) 、 5. 93 ( 2 H, s , 一 0 C互つ 0 -) 、 4. 5 2 ( 1 H, d, J = 3. 6 H z , 1位 H) 、 4. 1 2 -4. 36 ( 1 H, m, 1 1 a 位 H) 、 3. 79 ( 3 H, s, 4 ' 位一 O C且 3 ) 、 3. 74 ( 6 H, s , 3' 位, 5' 位一 O C且 3 ) 、 3. 4 0 - 3. 92 ( 1 H, m, 1 1 ;3位 H) 、 2. 56 - 3.
[0173] 24 ( 5 H, m, 2位, 3位, 4位 H, - C JH 2 C H 0) 実施例 1 2
[0174] 4—デソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4一 ( 3 - N , N—ジメ チルァ ミ ノ 一 1 —プロ ピル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合 物 1 2) の合成
[0175] 50 %—ジメ チルア ミ ン水溶液 0. 1 m 1、 メ タノー ル 3 m 1の混合液に酢酸 0. 1 m 1及びシァノ水素化ホ ゥ素ナ ト リ ウム 35 m g (0. 56 mm o 1 ) 、 続いて 実施例 4で得た 4—デソキシー 4 ' デメ チルー 4 ' 一 0 一べンジルォキシカルボ二ルー 4 - ( 2—ホノレミ ノレ一 1 ーェチル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン 300 m g ( 0. 5 2 m m o 1 ) を加え、 室温で 1時間反応した。 反応後、 反応液にクロ口ホルム 3 0 m 1 を加えた後、 飽 和炭酸水素ナ ト リ ウム水、 水で洗浄し、 硫酸マグネシゥ ムにて乾燥した。 溶媒を留去して得られた残渣をカラム ク ロマ トグラフィ ー (シ リ カ 2 0 g、 展開溶媒 ; クロロ ホルム : メ タノール = 20 : 1 ) で精製し、 4一デソキ シー 4 ' 一デメチルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ 二ルー 4一 ( 3— N, N—ジメ チルア ミ ノ ー 1 —プロ ピ ル) 一 4ーェビポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 2) を 2 4 5 m g (収率 78%) 得た。
[0176] 実施例 1 3
[0177] 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4 ' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4一 (3— N, N—ジメ チルァ ミ ノ 一 1'ーェチル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 3) の合成
[0178] 50 %—ジメチルァ ミ ン水溶液 1 5 m g ( 0. 1 6 7 mm o l ) 、 メ タノール 5 m l の混合液に酢酸 0. 1 m 1及びシァノ水素化ホウ素ナ ト リ ウム 1 0 m g (0. 1 9 m m o 1 ) 、 続いて実施例 3で得た 4ーデソキシー 4 ' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー
[0179] 4—ホノレミ ノレメ チルー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 1 0 0 m g ( 0. 1 78 mm o l ) を加え、 室温で 1時間反 応した。 反応後、 反応液に酢酸ェチル 1 00 m 1を加え た後、 飽和炭酸水素ナ ト リ ウム水、 水で洗浄し、 硫酸マ グネシゥムにて乾燥した。 溶媒を留去して得られた残渣 を薄層ク ロマ トグラフィ ー (展開溶媒 ; ク ロ口ホルム : メ タノール = 5 : 1 ) で精製し、 4ーデソキシー 4' 一 デメ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 ( 3 - N , N—ジメ チルア ミ ノ ー 1ーェチル) 一 4ーェ ピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 3) を 60 m g (収率 57. 2 % ) 得た。
[0180] 実施例 14
[0181] 4—デソキシー 4' 一デメ チルー 4' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4一 (2— N—メ チルー N—シク ロ へキシルア ミ ノ ー 1 ーェチル) 一 4一ェピポ ドフィ 口 ト キシン (化合物 14 ) の合成
[0182] シク ロへキシルァ ミ ン 1 80 m g ( 1. 81 m m o 1 ) のメ タノール 1 0 m 1溶液に酢酸 0. 1 m l及びシァノ 水素化ホウ素ナ ト リ ウム 85m g ( l . 35 mm o 1 ) 続いて実施例 3で得た 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4 ' — 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4ーホノレミ ノレメ チルー 4ーェピポ ドフ イ ロ トキシン 500 m g ( 0. 9 mm o 1 ) を加え、 室温で 1時間反応した。 反応後、 反 応液に更に 37%—ホルムアルデヒ ド水 0. l m 1を加 えた後、 室温で 1時間反応させた。 反応液にクロ口ホル ムを加え、 飽和炭酸水素ナ ト リ ゥム水、 水で洗浄し、 硫 酸マグネシウムにて乾燥した。 溶媒を留去して得られた 残渣をカラムク ロマ トグラフィ ー (シ リ カ 20 g、 展開 溶媒 ; ク ロロホルム : メ タノール = 20 : 1 ) で精製し、
[0183] 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4' 一 0—ベンジルォ キシカルボ二ルー 4一 (2— N—メチルー N—シク ロへ キシルア ミ ノ ー 1ーェチル) 一 4一ェピポ ドフィ 口 トキ シン (化合物 14) を 470 m g (収率 79%) 得た。 実施例 1 5
[0184] 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4' 一 0—べンジル ォキシカルボ二ルー 4一 ( 2— N , N—ジェチルァ ミ ノ 一 1ーェチル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 5) の合成
[0185] ジェチルァ ミ ン 38m g (0, 53mm o l ) 、 メ タ ノール 1 0 m 1の混合液に酢酸 0. 1 m 1及びシァノ水 素化ホウ素ナ ト リ ウム 52m g (0. 82mm o l ) を 加え、 続いて実施例 3で得た 4ーデソキシー 4' ーデメ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一ホゾレ ミ ルメチルー 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン 300 m g
[0186] (0. 53 mm o 1 ) を加え、 室温で 1時間反応した。 反応後、 反応液にクロ口ホルムを加え、 飽和炭酸水素ナ ト リ ウム水、 水で洗浄し、 硫酸マグネシウムにて乾燥し た。 溶媒を留去して得られた残渣をカラムクロマ トグラ フィ ー (シ リ カ 20 g、 展開溶媒 ; ク ロ口ホルム : メ タ ノール- 20 : 1 ) で精製し、 4ーデソキシー 4' ーデ メ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一
[0187] (2— N, N—ジェチルア ミ ノ ー 1ーェチル) 一 4ーェ ピポ ドフイ ロ トキシン (化合物 1 5) を 175m g (収 率 53. 5 % ) 得た。
[0188] 実施例 16〜 27
[0189] 実施例 12〜 1 5と同様にして第 1表に示す化合物 16〜 27を合成した。
[0190] 4 化合物: 14
[0191] 率: 79. 0%
[0192] — NMR [溶媒: CDC 13 ] : δ (ppm)
[0193] 7. 46 (5H, m, PhCH, OCO-) , 6. 73 (IH, s, 5位 H) ,
[0194] 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 31 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93 (2H, s, - OCHn O— ) , 5. 25 (2H, s, P h C H_« OCO— ) ,
[0195] 4. 10-4. 60 ¾H, m, 1位 H, 11位 H) , 3. 68 (6H, s,
[0196] 3' , 5' -OCH, ) , 2. 80— 3. 16 (3H, m, 2, 3, 4位 H) ,
[0197] 2. 38-2. 53 (3H, m, - C且2 Nく, 7ζ^> ) , 2. 26 (3H, s, c 6
[0198] >NCH3 ) , 1. 79 (7H, m, -CH_2 H 3 C Nく, _<^ H (e) ) ,
[0199] 13-1. 28 (5H, m, H (a q) ) 化合物: 15
[0200] R = -CH2 CH2 N (C Hc )
[0201] '2 "5
[0202] 率: 53·_ 5%'
[0203] H-NMR [溶媒: CDC 1 ] : δ (ppm)
[0204] 7. 45 (5H, m, Ph CH OCO—), 6. 65 (IH, s, 5位 H) ,
[0205] 6. 38 (IH, s, 8位 H) 6. 28 (2H, s, 2' , 6' 位 H), 5. 86 (IH, d, J =l. 5Hz, -OCHn 0—) 5. 85 (1H, d, J =1. 5
[0206] Hz, - OC且 2 0-) , 5. 26 (2H, s, P h C H„ OCO -) , 4. 47 IH, d, 3 = . 0Hz, 1位 H) , 4. 26 (IH, d d, J = 9. 7Hz, 11 a位 H) , 4, 06 (IH, t, J = 9H z, 11 ;8位 H) , 3. 71 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 3. 06 (IH, d t, J = 7Hz, 5Hz, 4位 H) , 2. 91 (IH, d d, J =l 4Hz, 5Hz, 2位 H) , 2. 87 (IH, d d d d, J =14Hz, 9Hz, 7Hz, 5Hz, 3位 H) , 2. 49 (4H, q, J = 7H z, 一 N (CH, CH, ) 2. 4 (2H, m, — CH N<) 82 (IH, m, -CH o N<) , (IH, m, — C 。 CH。 N<)
[0207] 0. 98 (6H, t z, -N CH
[0208] 3 J 2 化合物: 16
[0209] CH
[0210] R = - CH2 CH, NCH„ CH„ OH
[0211] 率: 79. 5%
[0212] ^H— NMR [溶媒: CDC 13 ] : δ (ppm)
[0213] 7. 37 (5H, m, Ph CH, OCO -), 6. 72 (IH, s, 5位 H) ,
[0214] 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 30 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93
[0215] (2H, s, -OCH., O -) , 5. 25 (2H, s, Ph CH, OCO—) ,
[0216] 4. 00-4. 60 3H, m, 1位 H, 11位 H) , 3. 67 (6H, s,
[0217] 3' , 5' -OCHo ) , 2. 80-3. 20 (5H, m, 2, 3, 4位 H,
[0218] -CH, OH) , 2. 40-2. 70 (4H, m, -CH„ CH, ―) , 2. 30
[0219] (3H, s, >NCH3 ) , 1. 60-2. 10 (2H「m, - "¾ CH2 N<) 化^^ 7
[0220] CH 3
[0221] (ppm)
[0222] —) , 6. 79 (IH, s, 5位 H) , 1 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 92
[0223] (2H, s, - OCHn O -), 5. 25 (2H, s, PhCH„ OCO -),
[0224] 4. 54 (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 10-4. 40 (2H, m, 11位 H) , 3. 67 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 2. 80— 3. 30
[0225] (3H, m, 2, 3, 4位 H) , 2. 46 (2H, t, 3 = 7. 2Hz, -CH N<) 2. 33 (6H, s, - N (CH, ) „ ) , 2. 26 (3 H, s,
[0226] -N (CH, ) -N (CH, ) 7) , 1. 60-2. 10 (2H, m,
[0227] - C且 2 CH2 N<)
[0228] 化合物: 18
[0229] R = -CH, CH, N N-CHQ 率: 76. 9%
[0230] H-NMR [溶媒: CDC 13 ] : δ (p m)
[0231] 7. 37 (5H, m, PhCH„ 0C0-) , 6. 74 (IH, s, 5位 H),
[0232] 6. 44 (1H, s, 8位 H) , 6. 29 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 92 (2H, s, — 0じ且2 0-) , 5. 24 (2H, s, Ph CH_„ OCO -),
[0233] 4. 56 (IH, d. J =5. 4Hz, 1位 H) , 3. 96— 4. 44 (2H, m, 11位 H), 3. 67 (6H, s, 3' , 5' -OCH_3 ) , 2. 76-3. 28
[0234] ―
[0235] (3H, m, 2, 3, 4位 H) , 2. 49 (8H, m, — N N-) , 2. 30 (3H, s, >NCH, ) , 2. 36 (2H, m, -CH, N N-) , 2. 08 (2H, m, -CH, CH, N N— ) 化合物: 19
[0236] CH 3
[0237] R = -CH2 CH2 NCH2 CH, N (CHg ) 2
[0238] 一率: 42. A%
[0239] H— NMR [溶媒: CDC 1 , ] : δ (ppra)
[0240] 7. 38 (5H, m, Ph CH2 OCO—) , 6. 75 (IH, s, 5位 H) ,
[0241] 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 30 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93 (2H, s, -OCH, 0 -) , 5. 25 (2H, s, Ph CH, OCO -),
[0242] 4. 56 (IH, d, J =4. 5Hz, 1位 H) , 3. 96-4. 40 (2H, m, 11位 H) , 3. 67 (6H, s, 3' , 5' — OCH, ) , 2. 80-3. 24 (3H, m, 2, 3, 4位 H) , 2. 38-2. 60 (6H, m,
[0243] 一 CHn NCH。 H, NO , 2. 27 (9H, s,
[0244] - N (tH, fcH :H„ N (CH, ) „ ) , 1. 60-2. 08 (2H, m, - CH2 。 N (CHg ) CH2 "CH N<)
[0245] 化合物: 20
[0246] CH, ra)
[0247] , 6. 68 (IH, s, 5位 H) (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5 93
[0248] (2H, ss,, —- OOCCHH。, 00 -) , 5. 25 (2H, s, PhCH2 OCO -)
[0249] 4. 59 (IH, d, J = 3. 6Hz, 1位 H) , 3. 92 4. 48 (2H, 11位 H), 3. 68 (6H, s, 3' , 5' - OCH_3 ) 3. 66 (4H, J = 7. 0Hz, -CH (〇且2 OH) , ) , 2. 60-3. 24 (7H, m, 2, 3, 4位 H, -CH, N"CH<) , 2. 37 (3H, s, >NCH0 ) , J 48 -2. 20 (4H, b, — C且 2 CHN NCH (CH2 OH) ) —3 化合物: 21
[0250] CH
[0251] R = - CH2 CH。 NCH2 CH2 N 率: 64. 0%
[0252] ifi一 NMR [溶媒 : CDC 1 , ] : δ ( πι)
[0253] 7. 37 (5Η, m, PhCH0 OCO—), 6. 74 (IH, s, 5位 H) , 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 30 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93
[0254] (2H, s, -OCH_2 0-) , 5. 25 (2H, s, P h C H„ OCO -),
[0255] 4 L 00-4. 60 (3H, m, 1位 H, 11位 H) , 3. 55 (6H, s, 3' m d ,
[0256] 5' -OC ),
[0257]
[0258] 2. 43-2. 55 (8H, m, - C旦 2 N (CHg ) C且 2 C且 2 N
[0259] 2. 27 (3H, s, >NC且 3 ) , 1. 40-1. 76 (8H, m,
[0260] CH2 CH2 N (CHg ) -, -N V ) 化合物: 22
[0261] 収率: 96. 0%
[0262] ifi— NMR [溶媒: CDC 13 ] : δ (ppm)
[0263] 7. 38 (5H, m, PhCH, OCO -) , 6. 75 (IH, s, 5位 H), 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 30 (2H, s, 2' , 6' 位 , 5. 93
[0264] (2H, s, OC 9 0 -), 5. 25 (2H, s, PhCU2 OCO
[0265] 4. 24— 4. 55 (¾H, m, 1位 H. 11位 H) , 3. 67"(6H, s, 3' , 5' —OC且 3 ) , 2. 90-3. 44 (3H, m, 2, 3, 4位 H) , 2. 24
[0266] 20-1. 95 (8H, m,
[0267] 化合物: 23
[0268] 率: 79. 1%
[0269] H— NMR [溶媒: DMSO - d6 ] : 6 (ppm)
[0270] 7. 39 (5H, m, Ph CH„ OCO—), 7. 02 (1 H, s, 5位 H) ,
[0271] 6. 48 (1H, s, 8位 H) , 6. 32 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 98
[0272] (2H, s, -OCH2 0 -), 5. 23 (2H, s, P h C H„ OCO—) ,
[0273] 4. 54 (IH, d, J = 3. 6H z, 1位 H) , 3. 92-4. 44 (2H, m, 11位 H) , 3. 62 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 2. 60-3. 50
[0274] (14H, m, 2, 3, 4位 H, . 20-2. 60
[0275] (12H, m, — C且 2 CH, N
[0276] 4 化合物: 26
[0277] CH
[0278] R = -CH„ CH„ NCH2
[0279] 率: 66. 0%
[0280] ifi一 NMR [溶媒: CDC 13 ] : δ (ppm)
[0281] 7. 36 (6H, m, Ph CH2 OCO > ) ,
[0282] 6. 74 (IH, s, 5位 H) , 6. 43 (IH, s, 8位 H) , 6. 29 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93, 5. 92 (2H, dx2, J = lHz, -OCH„ 0-)| 5. 25 (2H, s, PhCH, OCO -) , 4. 55 (IH, d, J = 5Hz, 1位 H) , 4. 10 (IH, m, 11 α位 H) , 4. 00 (IH, m, 11 位 H) ,
[0283] 3. 73 (IH, d, J =8. 1Hz, -NCH_2-^ ) , 3. 67 (6H, s,
[0284] 3' , 5' -OCHn ) , 3. 15 (IH, m, 4位 H) , 2. 97 (IH, d d, J =5. 3Hz, 9. 8Hz, 2位 H) , 2. 87 (IH, m, 3位 H) , 2. 44 (2H, m, -CH2 〇且2 N<) , 2. 34 (3 H, s, >NCH_3 ) , 1. 91
[0285] (IH, m, -CH0 CH2 N<) 78 (1H, m, C且 2 CH2 NO 化合物: 27
[0286] CH
[0287] R = - CH2 CH2 N (CH2 ) 3 N (CHg ) n
[0288] 率: 58. 0%
[0289] NMR [溶媒: CDC 13 ] : δ ( ι)
[0290] 7. 46 (5H, m, PhCH" OCO -), 6. 75 (IH, s, 5位 H) ,
[0291] 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 30 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 94 (2H, s, -OCH2 O -) 5. 25 (2H, s, Ph CI19 OCO—) ,
[0292] 4. 57 (IH, d, J =5Hz, 1位 H) , 4. 35 (IH, J = 7H z, 11 a位 H) , 4. 13 (IH, t J = 8. 5Hz, l l yS位 H) , 3. 68 (6H, s, 3' , 5' -OCil, ) , 3. 6 (IH, m, 4位 H) , 3. 02 (IH, dd, J =5Hz, 8. 5H z, 2位 H) 2. 92 (IH, m, 3位 H) , 2. 38
[0293] (6H, m, -CH2 NCH2 CCHH, CHn N (CH, ) 2 ) , 2. 27 (6H, s, 一 N (CHn ) 2 ) , 2一. 24 (3H, s, —N (CH, }
[0294] 3 一 CH -) , 1. 68 - 2. 07 (4H, m, 一 CH CH2 N-CHn C C H 2 N (€H9 ) ) 実施例 28
[0295] 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4一 (3— N, N— ジメチルア ミ ノー 1一プロピル) 一 4一ェビポ ドフィ 口 トキシン (化合物 28) の合成
[0296] 実施例 1 2で得た 4ーデソキシー 4 ' 一デメチルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 (3— N, N ージメチルアミ ノ ー 1一プロビル) 一 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 230m g (0. 38 m m o 1 ) の酢酸ェチ ル : メ タノール ( ) 4 m 1溶液に 1 0 %パラジゥ ムー炭素 50m gを加え、 1気圧の水素気流中、 室温で 4時間反応した。 触媒を濾去した後、 溶媒を留去して得 られた残渣をカラムクロマ トグラフィー (シリカ 5 g、 展開溶媒 ; クロロホルム : メ タノール = 20 ) で精 製し、 更にジクロロエタン 2m lに溶解して、 4 N—塩 酸 Z酢酸ェチル 0. 2m 1を加えた。 減圧下濃縮して得 られた残渣をジェチルエーテルにて結晶化させ、 4ーデ ソキシ一 4' 一デメチルー 4一 ( 3 - N, N—ジメチル アミ ノ ー 1一プロピル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン 塩酸塩 (化合物 28) を 1 1 O m g (収率 61. 5 %) 得た。
[0297] 実施例 29
[0298] 4ーデソキシー 4' 一デメチルー 4一 (2— N, N - ジェチルア ミ ノ ー 1 ーェチル) 一 4一ェピポ ドフィ ロ ト キシン (化合物 3 1 ) の合成
[0299] 実施例 1 5で得た 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4 ' 一 0—べンジルォキシカルボ二ルー 4一 (2— N, N —ジェチルア ミ ノ ー 1 ーェチル) 一 4一ェビポ ドフィ 口 トキシン 1 60 m g (0. 25 m m o 1 ) の酢酸ェチル メ タノール ( 1 : 1 ) 20 m l溶液に 1 0%パラジウム -炭素 20 m gを加え、 1気圧の水素気流中、 室温で 1 0時間反応した。 触媒を濾去した後、 溶媒を減圧下濃縮 して得られた残渣をジェチルエーテルにて結晶化させ、 4ーデソキシー 4' 一デメ チルー 4一 ( 2 - N, N—ジ ェチルア ミ ノ ー 1ーェチル) 一 4ーェピポ ドフイ ロ トキ シン (化合物 3 1 ) を 1 02m g (収率 84. 3%) 得 た。
[0300] 実施例 30〜 53
[0301] 実施例 28及び 29と同様にして第 2表に示す化合物 29, 30, 32〜53を合成した。 2
[0302]
[0303] OH i^m: 28
[0304] R = -CH„ CH„ CH, N (CH„ ) „ · HC 1 ½-NMR [溶媒: DMSO - dfi ] : δ (ppm)
[0305] 9. 74 (IH, b r s, N+ H) , 8. 22 (1H, s, 4' 位 OH) , 6. 89 (IH, s, 5位 H), 6. 45 (IH, s, 8位 H), 6. 20 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 98 (IH, d, J = lHz, -OCHo 0—) , 5. 96 (IH, d, J = lHz, -OCH, 0-) , 4. 43 (IH, d, J=5. 5Hz, 1位 H) 4. 38 (IH, t, J=¾Hz, 11a位 H) , 4. 12 (IH, d d, J =l 1 Hz, 8Hz, 11 3位 H) , 3. 62 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) ,
[0306] 3. 12 (IH, dd, J = 14. 5Hz, 5. 5Hz, 2位 H) , 3. 08 (2H, m, -CH, NO , 3. 05 (IH, m, 4位 H), 2. 86 (IH, m, 3位 H) 2. 75 ¾H, s, —N (C且 3 ) , ) , 1. 84 (1 H, m,
[0307] CH2 CH„ CH2 NO , 1. 76 (IH, m, -CH„ CH„ CH9 N<),
[0308] 61 (IH, m, - CH ―2, CH2 , CH2 , N<) , "41 (lk m,
[0309] - CHn C且 2 CH2 N<) ' ' ' 化合物: 29
[0310] R = -CH„ CHo N (CH, ) „ · HC 1
[0311] 率: 81. 8% ¾^: 226〜228で
[0312] ^-NMR [溶媒: CD3 OD] : δ ( ρι)
[0313] 6. 81 (1H, s, 5位 ¾) , 6. 47 (IH, s, 8位 H) , 6. 29 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93 (1H, d, J =1. OHz, — 0〇且2 O -),
[0314] 5. 92 (IH, d, J = l. OHz, -OCH, 0— ) , 4. 56" (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 42 (IH, d d, J = 8. 5Hz, 7. 5Hz, 11 a 位 H) , 4. 17 (IH, dd, J =11Hz, 8. 5Hz, 11 yS位 H) , 3. 71
[0315] (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 3. 3 (2H, m, -CH, N<) , 3. 24 (IH, m, 4位 H) , 3. 17 (IH, d d, J = 14. 5Hz, ¾. 5Hz, 2位 H) 3. 05 (IH, m, 3位 H) , 2. 87 (6H, s, — N (CH, ) „ ) , 2. 19
[0316] (IH, m, -CH2 CH, N<) , 1. 91 (IH, m, - C且 2 CH2 N<) 化合物: 30
[0317] c
[0318] % H 融点: 240 242V (分解)
[0319] ] δ (ppra)
[0320] N
[0321] 8 23 (IH, s, 4' 位 OH) , 7. 05, 7. 02 (IH, s, 5位 c H), 6. 46 (IH, s, 8位 H) , 6 20 (2H, £ 2' , 6' 位 H), 5. 99 (IH, d, OH z, OCH2 O ),
[0322] 5. 97 (IH, d, J =1. 0Hz, 一 OCHn 0 -) , 4 45"(1H, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 38 (IH, m, Tlな位 H) , 4. 5 (IH, m, 位 H), 3. 62 (6H, s, 3' 5' -OCH, ) , 3. 20 (IH, m,
[0323]
[0324] 化合物: 3
[0325] R = -CH
[0326] L2 H
[0327] 率: 84: 融点: 204〜205
[0328] H-NMR [溶媒 CDC 13 ] δ (ppm)
[0329] 6. 66 (IH, s, 5位 H): 6. 38 (1Η, s, 8位 H) , 6. 24 (2H, s 2' , 6' 位 Η) , 5. 87 (1Η, d, J = l. 5Hz, -OCH2 0 -),
[0330] 5. 86 (IH, d, J = l. 5Hz, OCH 0 -), 5. 30 (IH, b, 4' 位 OH) , 4. 47 (IH, d, J = 5. OH z' 1位 H), 4. 27 (IH, d d, J = 9. 7Hz, 11a位 H) , 4. 05 (IH, t, J =9Hz, 11 位 H) , 3. 70 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 3. 07 (IH, d t, J =7H z,
[0331] 5Hz, 4位 H) , 2. 9922 ((IIHH,, dddd,," JJ ==114Hz, 5Hz, 2位 H) ,
[0332] 2. 88 (IH, dddd, J =14Hz, 9Hz, 7Hz, 5Hz, 3位 H) , 2. 50 (4H, q, J = 7 Hz, - N (CH, CHg ) „ ) , 2. 41 (2H, m, -CHn CH, NO, 1. 82 (IH, m, - C _H2。 CCHH0 NN<<)) , 1. 64 (IH, m, -Cti7cH2 N<) , 0. 99 (6H, t, J =7H z,
[0333] 一 N (CH2 CHg ) n ) 化合物: 32
[0334] CH
[0335] 3
[0336] R = -CH2 CH, NCH CH, ΟΗ· HC 1
[0337] 率: 72. 0% ^: 234〜237で (分解)
[0338] ½—画 R [溶媒: CD, OD] : δ (ppm)
[0339] 6. 83 (IH, s, 5位 h) , 6. 47 (IH, s , 8位 H) , 6. 29 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 93 (IH, d, J = lHz , -OCH9 0-) , 5. 92
[0340] (IH, d, J = lHz, -OCH, 0-) , 4. 56 (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 42 (IH, dd, J = 8. 5Hz, 7. 5Hz, 11な位 H) , 4. 14 (IH, dd, J =11Hz, 8. 5Hz, 11 /8位 H) , 3. 86 (2 H, t, J =5. 5Hz, >NCH„ CH„ OH) , 3. 71 (6H, s,
[0341] 3' , 5' - OC且 3 ) , 3. 3 (¾, m, - CH 2 CH_2 NCH, CH, OH) , 3. 2-3. 3 (¾, m, 4位 H, - C且 2 CH„ OH) , 3. 17 (IH, dd, 3=14. 5Hz, 5. 5Hz, 2位 H) , ¾. 05 (IH, m, 3位 H) , 2. 9 ]
[0342] (3H, s, >NC旦 3 ) , 2. 23 (IH, m, - CH„ CH„ NCHり CH2 OH) 1. 96 (IH, m「- CH9 CH2 NCH2 CH2 OH) 化合物: 33
[0343] CH
[0344] 3
[0345] R = - CH2 CH2 N-N (CH, ) HC 1
[0346] 2
[0347] 89: 2%' 224〜226
[0348] H-NMR [溶媒: CD, OD] : δ (ppm)
[0349] 6. 81 (IH, s, 5位 fe) , 6. 45 (IH, s, 8位 H) 6. 30 (2H, s 2' , 6' 位 H) , 5. 93 (IH, d, J = lHz, -OCH 0—) , 5. 92 (IH, d, J = lHz, — OCH2 0— ) , 4. 55 (1H, d, J=5. 5Hz, 1位 H) , 4. 43 (IH, dd, J = 8. 5Hz, 7. 5Hz, 11な位 H) ,
[0350] 4. 16 (IH, dd, J =l 1Hz, 8. 5Hz, 11 ^位 H) , 3. 71 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 3. 3 (2H, m, -CH, N<) , 3. 24 (1H, m, 4位 H) , 3. 15 (IH, d d, J =l 4. 5Hz, 5. 5Hz, 2位 H) , 3. 02 (IH, m, 3位 H) , 2. 80 (6H, b r s, -N (CH, ) , )
[0351] 2. 72 (3H, b r s, -N (CH, ) -N<) , 2. 13 (IH, m,
[0352] -CH2 CH2 N<) , 80 (IH, m, -CH, CH, Nく)
[0353] l2 化合物: 34
[0354] ^: 66. 1% : 232〜236で (分解)
[0355] H— NMR [溶媒: DMSO— d6 ] : δ (ppm)
[0356] 6. 91 (IH, s. 5位 H) , 6. 43 (IH, s, 8位 H) , 6. 23 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 94 (IH, d, J = lHz, -OCHn 0 -), 5. 93 (IH, d, J = lHz, -OCH, 0 -), 4. 43 (IH, d, J =5. 5Hz, 1位 H) , 4. 35 (IH, t, J =8Hz, 11 α位 H) , 4. 15 (IH, d d, J = l lHz, 8Hz, 11 位 H) , 3. 64 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ΰ ) ,
[0357] 3. 20-3. 50 (1 OH, m, - C且 2 N N-CHg ) , 3. 16 (IH, m,
[0358] 4位 H) , 3. 08 (IH, dd, J =14. 5Hz, 5. 5Hz, 2位 H) ,
[0359] 2. 88 (IH, m, 3位 H) , 2. 72 (3H, s, >NC且 3 ) , 2. 17 (IH, m, -C_H2 CH2 r^T- ) , 1. 80 (IH, m, -CH_2 CH2 化合物: 35
[0360] CH
[0361] R = -CH„ CH„ NCH« CH, N (CH, ) , - 2HC 1
[0362] 率: 71. 1% fe: 203〜205。C
[0363] iH-NMR [溶媒: DMSO-d6 ] : 6 ( pm)
[0364] 6. 95 (IH, s, 5位 H) , 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 23 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 95 (IH, d, J = lHz, -OC¾ O— ), 5. 94 (IH, d, J =lHz, -OCH, 0-) , 4. 44 (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 36 (IH, t, J = 8Hz, 11a位 H) , 4. 16 (IH, d d, J =l 1Hz, 8Hz, 11 位 H), 3. 64 (6 H, s, 3' , 5' -OCH- ) , 3. 42 (6H, b r s, -CH„ NCHn CH, N<) , 3. 17 (IH, m厂 4位 H) , 3. 11 (1H, dd, J =l 4Hz, 5. 5Hz, 2位 H) , 2. 90 (IH, m, 3位 H), 2. 80 (6H, s, — N (CH, ) „ ) , 2. 74 (3H, s, >N (CH3 ) 2 ) , 2. 26 (IH, m,
[0365] - CHn "CH, N (CH, ) CH„ CH, NO , 1. 89 (IH, m,
[0366] -CHn CH2 N (CH3 ) CH2 CH2 N<)
[0367] 化合物: 38
[0368] CH
[0369] 3
[0370] R = -CH„ CH„ N (CH, ) F CH, · HC 1
[0371] 一率: 66. 1% ¾U¾: 210-217°C
[0372] H— NMR [溶媒: DMSO— d6 ] ,: <5 (ppni)
[0373] 9. 73, 9. 69 (IH, b r s, NT H) , 8. 23 (IH, s, 4' 位 OH) , 7. 00, 6. 96 (IH, s, 5位 H) , 6. 46 (IH, s, 8位 H) , 6. 19 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 99 (1H, s, -OCH, O— ) , 5. 97 (IH, s, -OCH, 0-), 4. 45 (1H, d, J =5Γ¾Ηζ, 1位 H) , 4. 36 (IH, t, J = 8Hz, 11 α位 H) , 4. 14, 4. 11 (IH, d d, J =1 OHz, 8Hz, 11 位 H) , 3. 62 (6H, s, 3' , 5' -OCH„ ) , 3. 20 (IH, m, 4位 H) , 3. 14 (IH, dd, J =14. 5Hz, 5. 5 3位 ) -), -) ,
[0374] 化合物: 40
[0375] CH
[0376] 3
[0377] R = -CH„ CH0 NCH,→Γ >· HC 1
[0378] 率: 69. 8% : 204〜205
[0379] ΓΗ— NMR [溶媒: DMSO— d6 ] : δ (ppm)
[0380] 10. 76 (IH, b r s, N+ H) , 7. 96 (IH, b r s, 4' 位 OH),
[0381] 7. 5 , 7. 46 (3H, b r s,
[0382] -CH H, s, 5位 H), 6. 45 (IH, s,
[0383] 8位 H) , 6. 22 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 98 (IH, d, J = lHZi -OCH„ 0-) , 5. 96 (IH, d, J = lHz, -OCH_2 0-) , 4. 45 (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 39 (IH, b r s, - C ¾ - <^) ,
[0384] 4. 31 (IH, m, 1 la位 H) , 4. 22 (IH, b r s, -CH, -Q>)
[0385] 4. 11 (IH, b r t, J = 8. 5H z ,, 11 位 H) , 3. 64 ¾H, s,
[0386] 3' , 5' -OCPI, ) , 3. 10 (IH, over lapped, 2位 H) , 2. 89 (IH, m, 3位 H) , 2. 67 (3H, b r s, >NCH, ) , 2. 33 (IH, m,
[0387] -CH„ CH2 N<) , 1. 96 (IH, m, -"CH_2 CH2 N<) 化合物: 4
[0388] CH
[0389] 3
[0390] R = - CH„ CH„ NCH (CH, OH) C 1
[0391] 率: 67. 0% · 225
[0392] ifi一 NMR [溶媒: DMSO— d (p m)
[0393] 6 ]
[0394] 9. 29 (IH. b r s, N+ H) 7. 96 (IH, b r s, 4' 位 OH) ,
[0395] 6. 9 5 (IH, s, 5位 H) , 6. 45 (IH, s, 8位 H) , 6. 23 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 97 (IH, d, J = lHz, OCH 0 ) , 5. 96
[0396] (1H , d, J = lHz, -OCH„ 0—) , 5. 24 (2H,
[0397] -CH (CH„ OH) 2 ), 4. 45 (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) ,
[0398] 4. 3 6 (IH, t, J =8H z, 11a位 H) , 4. 17 (IH, d d, J = 11 Hz, 8Hz, 1 l^&H) , 3. 73 (4H, b r s, -CH (し H9 OH)
[0399] 2 ) 3. 6 4 (6H, s, 3' 5' -OCH, ) , 3. 2-3. 5 (2H, m,
[0400] -CH CU2 N<), 3 39 (lH「t r s, -CH (CH„ OH) % )
[0401] 3. 1 (TH, m, 4位 H) 3. 09 (IH, over lapped, 2位 H) ; 2. 89
[0402] (IH m, 3位 H) , 2. 8 (3H, b r s, >NCH, ) , 2. 28 (1 H, m, -CH CH„ N<), 1. 9 (IH, m, —CH。 CH, N<)
[0403] -2 2 2 2 1
[0404] 210〜216 (IH, b r s, N H) ,
[0405] (1H, b r s, 5位 H) ' s, 2' ' 6' 位 H), 5. 99 s, — OC且 2 0 -), 4. 45 (IH, t, J=8Hz, 11 "位 2 (6H, s, 3' ' 5'
[0406] . 14 (1H, dd, J = 14. 5 H, over lapped, 4. 1 (12H, 一 NC且 2 CH„ N 0) , 2. 89 (IH, m, 3位 H), 2· 83 (3H, b r s,
[0407] > CH3 ) , 2. 30 (IH, m, —C且 2 CH2 N<), 1. 91 (1H, m,
[0408] -CH CH2 NO
[0409] 化合物: 43
[0410] CH
[0411] R = -CH„ CH„ NCHn CH, N > · 2HC 1
[0412] iK^: 69. 0% 融点: 210〜213oC
[0413] — NMR [溶媒: DMSO— d£ ] : δ (ppm)
[0414] 10. 41 (IH, b r s, N+ H) , 10. 72, 10. 66 (IH, b r s, N+ H) , 8. 24 (IH, b r s, 4' 位 OH) , 7. 03, 6. 97 (IH, s, 5位 H) , 6. 47 (IH, s, 8位 H) , 6. 20 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 99 (IH, s, - OCHn 0 -) , 5. 97 (IH, s, -OCH, 0 -), 4. 45 (IH, d, J = 5. 5Hz, 1位 H) , 4. 37 (IH, t. J =7. 5 H z, l l 位 H) . 4. 17, 4. 13 (IH, m. 11 ;S位 H) , 3. 63 (2H, m, >NCH0 CH2 N ), >NCHn CH, N 》, 3. 62 (6H, s, 3' ,
[0415] 5' -OCH, ) , 3. 57 (2H, m, - N >) , 3. 50 (2H, m,
[0416] >NCH2 CH2 N >, >NCH2 CH„ N ), 3. 45 (IH, m, -CH0 CH2 NCH2 CH„ N >) , 3. 16 (IH, m, 4位 H) , 3. 14
[0417] (IH, dd, J =14. 5Hz, 5. 5Hz, 2位 H) , 3. 08 (IH, m, -CH2 CH2 NCH2 CH2 N >) , 2. 92 (2H, m, , 2. 90
[0418] (IH, m, 3位 H) , 2. 84 (3H, b r s, >NCH„ ) , 2. 30 (IH, m, -CH2 CH2 N<) , 1. 90 (IH, m, — C CH2 N<) , 1. 7-1. 9
[0419] (5H, m, — N }-Ηβ) , 1. 42 (IH, m, 一 N ^Ha)
[0420] 化^ ¾: 44
[0421] Su¾: 250〜252で
[0422] 6 ] : δ (ppm)
[0423] , 8. 23 (IH, s, 4' 位 OH) , 6. 96 (IH, s, 5位 H), 6. 46 (IH, s, 8位 H) , 6. 19 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 4. 45 (IH, d, J-5. 5Hz, 1位 H) , 4. 37 (IH, t, J =8Hz, 11な位 H) , 4. 12 (IH, d d, J =l 1Hz, 8Hz, 11 ;3位
[0424] ) , 3. 44 (2H, m, N )) , 3. 13 (IH, dd,
[0425] J =l 4. 5Hz, 5. 5Hz, 2位 H) , 3. 13 (IH, m, 4位 H) , 2. 97 (2 IH,
[0426]
[0427] 6
[0428] 化合物: 47
[0429] CH,
[0430] R = -CH2 CH„ NCH„ CH, N (C„ Η& ) „ · 2HC 1
[0431] 率: 41. 5% Su¾: 195〜197
[0432] fH- NMR [溶媒: DMSO - d6 ] : δ (ppm)
[0433] 11. 37 (IH, b r, N+ H) , 11. 17 (IH, b r, N+ H) 8. 20 (IH, b r, 4' 位 OH) , 7. 05, 7. 00 (IH, s, 5位 H) 6. 45 (IH, s, 8位 H), 6. 19 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 99 (IH, s -OCHfl 0-) , 5. 96 (IH, s, -OCH„ 0 -) , 4. 45 (IH, d, J =5. 6¾z, 1位 H) , 4. 37 (IH, t, J = 7. 2Hz, 11な位 H) , 4. 10-4. 30 (IH, m, 11 位 H) , 3. 61 (6H, s, 3' , 5' 一 OCH, ) , 3. 00-3. 60 (12H, m, 2, 4位 H, ,
[0434] -CH7NCH„ CH« N (CH。 CH, ) 2. 90 (IH, m, 3位 H) , 2. "81 (3H, s, >NCH~ , 2. 32 (IH, m, -CH2 CHり N<) ,
[0435] L2
[0436] . 91 (IH, m, -CH, CH, N<) 26 (6H,
[0437] N (CH, CH3 ) 2 ) it- : 48
[0438] CH
[0439] 3
[0440] I
[0441] R = - CH2 CHn , NNCCH2 一 N - 2HC 1
[0442] -.31: 0%" "
[0443] - NMR [溶媒: DM
[0444] 8. 85 (2H, b r s, ,
[0445]
[0446] 6. 90, 7. 00 (IH, s, 5位 H) , 6. 45 (IH, s, 8位 H) 6. 18
[0447] (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 99, 5. 97 (2H, s, -OCH2 O—) ,
[0448] 4. 10-4. 70 (5H, m, 1位 H, — N (CHg ) C且 2 N, 11位 H) ,
[0449] 3. 61 (6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 3. 00-4. 00 (4H, m, -CH„ CH, N<, 2, 4位 H) , 2. 90 (IH, m, 3位 H) , 2. 67 (3H, s, >NCii3 ) , 2. 40 (IH, m, - CH, N<) , 2. 00 (IH, m, -CH2 CH2 N<) 化合物: 49
[0450] CH,
[0451] R = -CH„ CH„ NCH2→ A - 2HC 1
[0452] 率: 57. 0%
[0453] — NMR [溶媒: D
[0454] 8. 68 (IH, d, J ,
[0455]
[0456] 7. 76 (IH, d, J = 7. 6Hz,-→^> ) , 7. 53 (IH, m,→^ ) ,
[0457] 6. 95 (IH, s, 5位 H) , 6. 44 (1H, s, 8位 H) , 6. 19 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 99, 5. 97 (2H, s x2, -OC¾ 0-), 4. 50
[0458] (2H, s, >NC且^^ ) , 4. 44 (IH, d, J = 5. 3Hz, 1位 H) ,
[0459] 4. 32 (IH, t, J =7. 9Hz, 11 α位 H) , 4. 17 (IH, m, 11 β位 H) , 3. 62 (6H, s, 3' , 5' -OCH„ ) , 3. 11— 3. 40 (4H, m, 2, 4位 H, -CH, CH, N<) , 2. 89 (IH, m, 3位 H), 2. 76 (3H, s, >NCii3 ) , 2. 4V (IH, m, -CH„ CH„ N<) , 1. 99 (IH, m, -CH, CH2 N<) 化合物: 50
[0460] CH
[0461] R = -CH, CH, N (CH„ ) , N (CH« ) , · 2HC 1
[0462] iR^: 92. 0% tiu¾: 238で (分解)
[0463] - NMR [溶媒: DMSO- d6 ] : 6 (ppm)
[0464] 8. 26 (IH, s, 4' 位 OH) , 7. 03 (IH, s, 5位 H) , 6. 45 (IH, s, 8位 H) , 6. 19 (2H, s, 2' , 6' 位 H) , 5. 99, 5. 97 (2H, s x2, -OCH, 0 -), 4. 44 (IH, d, J =5. 2Hz, 1位 H) , 4. 37 (IH, m, 11 a位 H) , 4. 34 (IH, m, 11 S位 H), 3. 62 6H, s, 3' , 5' -OCH, ) , 2. 90-3. 40 (9H, m, 2, 3, 4位 H, -CH.„ CH2 C Ho "C H 2 N<) , 2. 75 (9H, m,
[0465] -N (CHg ) - ( H, j 3 N (CH, ) , ) , 1. 91-2. 34 ( H, m,
[0466] -CH2 C"H2 NCH2 CH2 CH2 N<)
[0467] 化合物: 53
[0468] CH
[0469] 3
[0470] R = -CH2 CHn N N N-CH, · 2HC 1
[0471] 67; 0%' ^― 3 " rn^:: 188〜190で
[0472] H— NMR [溶媒: DMSO - d6 ] : δ ( m)
[0473] 13. 00 (2H, b r, N+ H) , 10. 94 (IH, b r, 4' 位 OH), 7. 05 (IH, s, 5位 H) , 6. 44 (IH, s, 8位 H) , 6. 19 (2H,
[0474] 2' , 6' 位 ΙΌ , 5. 98 (2H, s, OCH„ 0 -) 4. 45 (2H, m, 1位 H, 11 &Η) , 4. 2 (IH, m, 11 β位 W 3. 61 (6H, s, 3' , 5' — OCH3 ) , 2. 20— 3. 60 (13H, m,
[0475] CH2 CH2 N- — CH3 , 2, 3, 4位 H) , 2. 92 (6H, s,
[0476] N (CH3 ) ー Ν· CHn ) , 2. 28 (IH, m,
[0477] L3
[0478] 一 C旦 2 CH, N (CH3 ) -) 2. 04 (IH, m,
[0479] -CH2 CH2 N (CHg ) -)
[0480] 薬理試験 1
[0481] P 388マウス白血病細胞を l x l O 3 c e 1 1 s / w e 1 1で 96穴プレー トに播種し、 24時間培養した。 供試化合物をジメチルホルムア ミ ドに溶解させた後、 メ ディ ゥムで種々の濃度に希釈し、 各 w e 1 1に添加し培 養を継続した。 3日間の接触の後、 プレー トをグルタル アルデヒ ドにて固定し、 ク リスタルバイオレッ ト染色法 により細胞数を計測した。 各化合物の殺細胞効果をコン トロールの細胞数を 50 %減少させる薬剤濃度 (E DC()) として表わした。 結果を第 3表に示す。
[0482] 化合物番号 E D,fl ( M )
[0483] 3 4. 5 x 1 0 "7
[0484] 5 1. 2 x 1 0 '
[0485] 28 1. 2 x 1 0 "8
[0486] 33 2. 0 x 1 0 "8
[0487] 34 3. 0 x 1 0 "9
[0488] 35 1. 0 x 1 0 "9
[0489] 38 1. 9 x 1 0 "8
[0490] 43 4. 1 x 1 0 "9
[0491] 44 1. 2 x 1 0 "8
[0492] 4 5 3. 3 x 1 0 "9
[0493] 47 6. 3 x 1 0— 9
[0494] 52 4. 0 X 1 0 "8
[0495] 53 4. 3 x 1 0 "9 薬理試験 2
[0496] L 1 2 1 0マウス白血病細胞を 1 X 1 05 c e l l s Zm o u s eにて 7週令の雄 C D F i マウス ( 1群 6匹) の腹腔内に移植した。 供試化合物を下記第 4表に示す量 で 3. 5 %のジメ チルスルホキシ ドと 6. 5 %のツイ一 ン 80を含む生理食塩水に溶解させた後、 移植翌日から 5日間、 計 5回腹腔内に投与した。 3 . 5 %のジメチル スルホキシ ドと 6 . 5 %のツイ一ン 8 0を含む生理食塩 水だけを投与したコン トロールの場合と対比して延命增 加率を求めた。 結果を第 4表に示す。 第 4 表
[0497] 以下に本発明化合物を用いた製剤例を挙げる
[0498] 製剤例 1 錠剤
[0499] 錠剤を下記配合割合で常法に従い調製した。
[0500] 化合物 3 4 0 0 m g 乳糖 4 7 m g トウモロコ シデンプン 5 0 m g 結晶セルロース 5 0 m g ヒ ドロキシプロ ピノレセノレロース 1 5 m g タルク 2 m g ステア リ ン酸マグネ.シゥム 2 m g ェチノレセノレロース 0 m g 不飽和脂肪酸グリ セ リ ド 2 m g 酸化チタ ン 2 m g 錠当り 3 0 0 m g 製剤例 2 顆粒剤
[0501] 顆粒剤を下記配合割合で常法に従い調製した。
[0502] 化合物 3 5 2 0 0 m g マ ンニ ト ール 5 4 0 m g ト ウモロ コ シデンプン 1 0 0 m g 結晶セルロース 1 0 0 m g ヒ ドロキシプロ ピルセルロース 5 0 m g タルク 1 0 m g
[0503] 1包当り 0 0 0 m g 製剤例 3 細粒剤
[0504] 钿粒剤を下記配合割合で常法に従い調製した
[0505] 化合物 4 3 2 0 0 m g マ ンニ トーノレ 5 2 0 m g ト ウモロ コ シデンプン 1 0 0 m g 結晶セルロース 1 0 0 m g ヒ ドロキシプロ ピノレセノレロース 7 0 m g タルク 1 0 m g 包当り 0 0 0 m g 製剤例 4 カプセル剤
[0506] 力プセル剤を下記配合割合で常法に従い調製した 化合物 4 5 0 0 m g 乳糖 5 0 m g トウモロコシデンプン 4 7 m g 結晶セルロース 5 0 m g タルク 2 m g ステア リ ン酸マグネシウム 1 m g
[0507] 1 カプセル当り 2 5 0 m g 製剤例 5 注射剤
[0508] 注射剤を下記配合割合で常法に従い調製した
[0509] 化合物 4 7 0 0 m g 注射用蒸留水
[0510] 1管中 2 m 1 製剤例 6 坐剤
[0511] 坐 ¾を下記配合割合で常法に従い調製した,
[0512] 化合物 5 3 1 0 0 m g ウイテツブゾール S — 5 5 4 0 0 m g
[0513] (ラウ リ ン酸からステアリ ン酸
[0514] までの飽和脂肪酸のモノ一、
[0515] ジー、 ト リ ーグリセライ ド混合物
[0516] ダイナマイ ト ノ一ベル社製) 7 個当り 5 0 0 m g
权利要求:
Claims

請求の範囲
① 一般式
[式中、 は水素原子、 メチル基、 ベンジルォキシ 力ルボニル基、 ハ口ゲン原子を有してもよい低級アル カノィル基又は一 S i (R x) (R y ) (R z ) 基
(ここで、 R x、 R y及び R zは、 同一又は相異なつ て低級アルキル基又はフエ二ル基を示す) を示し、 R は低級アルケニル基、 水酸基を有する低級アルキル基, 一 (C H ) ― C HO基 (ここで、 mは 0〜4の整数 を示す) 、 ケ トアルデヒ ド基を有する低級アルキル基 又は一 (C H2 ) n NR2 R3 基 (ここで、 nは 1〜 6の整数を示す) を示す。 R2 及び R3 は同一又は相 異なって水素原子、 環状アルキル基、 一 N (R a ) (R b) 基 (R a及び R bは同一又は相異なって低級 アルキル基又はフユ二ル基を示す。 又 R aと R bは互 いに結合して低級アルキル置換ピペラジノ基を形成し てもよい。 ) 又は水酸基、 低級アルコキシ基、 フエ二 ル基、 6員環含窒素複素環基もしく は一 N (R c ) (R d ) 基 (R c及び R dは同一又は相異なって低級 アルキル基を示す。 ) で置換されてもよい低級アルキ ル基を示す。 又 R2 と R3 は互いに結合して環状構造 を形成し、 その環状構造の中に更に酸素原子或いは窒 素原子を含んでいてもよく、 更に環状構造に置換基と して水酸基で置換されてもよい低級アルキル基又はピ ぺリ ジノ基を有してもよい。 但し、 R i が水素原子で ある時、 Rは一 (C H2 ) ― C H O基又は一 (C H2 ) n N R2 R3 基を示す。 ] で表わされる 4ーデソキシ ー4—ェピポ ドフイ ロ トキシン誘導体又はその薬学的 に許容される塩。
② が水素原子又はべンジルォキシカルボニル基で ある請求の範囲第 1項に記載の 4ーデソキシー 4 -ェ ピポ ドフイ ロ トキシ ン誘導体又はその薬学的に許容さ
③ が水素原子である請求の範囲第 1項に記載の 4 ーデソキシー 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン誘導体又は その薬学的に許容される塩。
④ Rが— (C H2 ) ― N R2 R3 基である請求の範囲 第 1項に記載の 4ーデソキシ— 4一ェピポ ドフィ 口 ト キシン誘導体又はその薬学的に許容される塩。
⑤ が— (C H2 ) n N R2 R3 基において、 nが 2 又は 3を示す基である請求の範囲第 1項に記載の 4 - デソキシー 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン誘導体又はそ の薬学的に許容される塩。
⑥ Rがー (C Hゥ ) ― NR2 R3 基において、 R2 及 び Rつ が同一又は相異なって水素原子、 一 N (R a )
(R b ) 基 (R a及び R bは同一又は相異なって低級 アルキル基を示す。 又 R aと R bは互いに結合して低 級アルキル置換ピペラジノ基を形成してもよい。 ) 、 6員環含窒素複素環基もしく は一 N (R c ) (R d) 基 (R c及び R dは同一又は相異なって低級アルキル 基を示す。 ) で置換されてもよい低級アルキル基、 又 は R2 と R3 は互いに結合して環状構造を形成し、 そ の環状構造の中に更に酸素原子或いは窒素原子を含ん でいてもよく、 更に環状構造に低級アルキル基又はピ ぺリ ジノ基を有してもよい基を示す基である請求の範 囲第 1項に記載の 4ーデソキシー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン誘導体又はその薬学的に許容される塩。
⑦ Rがー (C H2 ) n NR2 R3 基において、 Rク 及 び R3 が同一又は相異なって水素原子、 一 N (R a )
(R b) 基 (R a及び R bは同一又は相異なって低級 アルキル基を示す。 又 R a と R bは互いに結合して低 級アルキル置換ピペラジノ基を形成してもよい。 ) 又 は 6員環含窒素複索環基もしく は一 N ( R c ) ( R d ) 基 (R c及び R dは同一又は相異なって低級アルキル 基を示す。 ) で置換されてもよい低級アルキル基を示 す基である請求の範囲第 1項に記載の 4 ーデソキシー 4ーェピポ ドフイ ロ トキシン誘導体又はその薬学的に έίΡ谷される ίΆ ο
⑧ Rがー (C H 2 ) n N R 2 R 3 基において、 R 2
R 3 が互いに結合して環状構造を形成し、 その環状構 造の中に更に酸索原子或いは窒素原子を含んでいても よく、 更に環状構造に低級アルキル基又はピペリ ジノ 基を有してもよい基を示す基である請求の範囲第 1項 に記載の 4ーデソキシー 4一ェピポ ドフィ 口 トキシン 誘導体又はその薬学的に許容される塩。
⑨ 請求の範囲第 1項に記載の 4 ーデソキシー 4ーェピ ポ ドフイ ロ トキシン誘導体又はその薬学的に許容され る塩の有効量と薬学的担体とを含有する抗腫瘍剤。
⑩ 請求の範囲第 1項に記載の 4ーデソキシー 4ーェピ ポ ドフイ ロ トキシン誘導体又はその薬学的に許容され る塩を哺乳動物に投与することからなる哺乳動物の腫 瘍治療方法。
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